[发明专利]一种低钠细晶氧化铝的制备方法无效
申请号: | 201110221900.5 | 申请日: | 2011-08-04 |
公开(公告)号: | CN102320638A | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
发明(设计)人: | 樊大林;王建立;车洪生;姚长江;余峰涛;耿红娟;马艳红;宋为聪;姜雪芹 | 申请(专利权)人: | 中国铝业股份有限公司 |
主分类号: | C01F7/30 | 分类号: | C01F7/30 |
代理公司: | 中国有色金属工业专利中心 11028 | 代理人: | 李迎春;李子健 |
地址: | 100082 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低钠细晶 氧化铝 制备 方法 | ||
1.一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于制备过程以工业氢氧化铝为原料,首先对氢氧化铝进行水热转相处理,得到氧化钠含量小于500ppm的低钠细晶的一水氧化铝,再将得到的低钠细晶的一水氧化铝压制成块,之后焙烧得到低钠细晶的氧化铝,最后经研磨、分级后得到亚微米的低钠氧化铝。
2.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于对氢氧化铝进行水热转相处理过程是使用管道化水热装置进行连续地水热处理。
3.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于对氢氧化铝进行水热转相处理过程中,采用管道化水热装置对氢氧化铝水基浆体进行预热到或略高于水热反应温度,之后浆体直接流入到带有搅拌装置的高压反应釜系列中进行充分水热反应,反应结束后的浆体经闪蒸罐闪蒸回收余热,浆体温度降至100℃以下,对浆体进行液固分离和洗涤。
4.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于对氢氧化铝进行水热转相处理过程是采用高压反应釜进行连续地水热处理。
5.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,所述的水热处理装置包括管道化预热加高压反应釜处理系统、纯管道化水热处理系统或高压反应釜等水热反应装置。
6.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于对氢氧化铝进行水热转相处理过程的水热体系中,水基浆体中氢氧化铝的固含为10-800g/L。
7.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于对氢氧化铝进行水热转相处理过程的水热反应温度为150℃至260℃,水热反应时间为10分钟至12小时。
8.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于对氢氧化铝进行水热转相处理过程,在水热反应体系中加入无机酸、有机酸或酸性电解质使浆体的pH值为3-7。
9.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于对氢氧化铝进行水热转相处理过程,在水热反应体系中加入的无机酸为盐酸、硝酸、硫酸、磷酸;有机酸为醋酸、草酸、酒石酸;酸性电解质为硝酸铝、硫酸铝、氯化铝酸式盐。
10.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于对氢氧化铝进行水热转相处理过程,在水热反应体系中加入拟薄水铝石或超细的薄水铝石为晶种,晶种添加量为氢氧化铝质量的0.001%-30%。
11.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于将得到的低钠细晶的一水氧化铝压制成块过程是采用制砖机或成球机成型装置进行的,得到一水氧化铝砖或球,之后将成型后的砖或球装入匣钵或放在SiC等棚板上,在梭式窑或燧道窑等高温窑中进行煅烧;或将得到的一水氧化铝粉体直接装入匣钵或坩埚中或放在棚板上在高温窑中进行煅烧得到氧化铝粉体。
12.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于在梭式窑或燧道窑等高温窑中进行煅烧时,煅烧温度为800-1500℃,在煅烧温度下的保温时间为0.5-20小时。煅烧温度低时,得到低α相含量的活性氧化铝;煅烧温度高于1000℃,可得到高α相含量的高温氧化铝。
13.根据权利要求1所述的一种低钠细晶氧化铝的制备方法,其特征在于煅烧后得到的低纳细晶氧化铝,经气流磨、搅拌磨、球磨或振动磨进一步磨细后,采用气流分级或水力分级去除大颗粒后,得到亚微米氧化铝或超细氧化铝。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国铝业股份有限公司,未经中国铝业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110221900.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:薄型扬声器
- 下一篇:底部配设有具有双底的柔性拱顶的容器