[发明专利]一种用于投影光刻中的焦面检测装置无效
申请号: | 201110224619.7 | 申请日: | 2011-08-05 |
公开(公告)号: | CN102243138A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | 唐燕;胡松;陈铭勇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周长兴 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 投影 光刻 中的 检测 装置 | ||
1.一种用于投影光刻中的焦面检测装置,主要结构为:
一照明光源,发出的光照射到绝对编码光栅上,经绝对编码光栅调制后的光通过投影成像系统后被第一反射镜投影成像到待测面上,经待测面反射后,通过第二反射镜进入检焦标记放大系统后由探测器接收;待测面的高度变化,使探测器接收到的绝对编码光栅像发生变化,利用探测器接收绝对编码光栅像,并提取与待测面高度对应的光栅像绝对编码,完成对待测面位置高度的检测。
2.根据权利要求1所述的用于投影光刻中的焦面检测装置,其中,所述照明光源为宽带或单色光源。
3.根据权利要求1或2所述的用于投影光刻中的焦面检测装置,其中,所述照明光源为卤素灯、氙灯、发光二极管或激光器。
4.根据权利要求1所述的用于投影光刻中的焦面检测装置,其中,所述绝对编码光栅具有0、1两种透过率,并利用二进制编码对其透过率分布进行编码。
5.根据权利要求1或4所述的用于投影光刻中的焦面检测装置,其中,所述绝对编码光栅沿竖直方向由若干条码道组成,每条码道上由透光和不透光的矩形区相间组成,相邻码道的矩形区数目是两倍关系,绝对编码光栅上水平方向上每一个位置均与一个固定的二进制编码对应。
6.根据权利要求1所述的用于投影光刻中的焦面检测装置,其中,待测面是投影光刻中待加工的表面,具有镜面反射、漫反射性质的平面或曲面。
7.根据权利要求1所述的用于投影光刻中的焦面检测装置,其中,所述探测器件为对光信号敏感的线阵或面阵光电探测类器件中的一种。
8.根据权利要求1或7所述的用于投影光刻中的焦面检测装置,其中,所述探测器件为CCD面阵探测器、线阵CCD探测器或CMOS器件。
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