[发明专利]在多晶硅铸锭用坩埚的内表面上形成涂层的方法

权利要求书

1.一种在多晶硅铸锭用坩埚的内表面上形成涂层的方法，该方法包括如下步骤：

1)将坩埚在空气中加热并保温在80-100℃，

2)将涂料组合物通过涂刷或滚刷的方法涂布在坩埚的内表面上，使干燥后的涂层厚度为200μm-1000μm；

3)在预先确定的硅熔液液面位置±50mm范围内进一步涂布涂料组合物，使干燥后的涂层总厚度为在步骤2)中制备的涂层的干燥后厚度的1.1～2倍；

4)使涂布后的坩埚在50～350℃干燥1～3小时；

其中，所述涂料组合物包含：10-60wt％氮化硅，和作为溶剂的水；

所述硅熔液液面位置是指在坩埚中的硅原料完全熔化后，硅熔液的自由液面所在的位置。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述涂料组合物进一步包含0.5-50wt％的添加剂，所述添加剂为选自C1～C4的醇、丙烯酸和聚乙烯醇的一种或多种；使用包含所述添加剂的涂料组合物之后，步骤4)中的干燥温度进一步降低至50～150℃。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述C1-C4的醇为甲醇、乙醇、丙醇或丁醇。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，所述聚乙烯醇的重均分子量为20,000-220,000。

5.一种坩埚，其包含采用根据权利要求1-4中任一项所述的方法形成的涂层。