[发明专利]气体中杂质的去除装置及维护方法

权利要求书

1.气体中杂质的去除装置，包括壳体、进气口和出气口，以及设置在所述进气口上游的第一开关模块、设置在所述出气口下游的第二开关模块；其特征在于：所述去除装置进一步包括：

颗粒物，所述颗粒物积聚在一起，用于截留气体中携带的杂质；

两层阻挡部件，所述阻挡部件上具有通孔，用于通过气体而阻挡所述颗粒物穿过；所述颗粒物处于所述两层阻挡部件之间，积聚在一起的颗粒物的上表面与上层阻挡部件的距离大于零；

腔体，所述腔体处于积聚在一起的颗粒物的内部，具有用于通过气体而阻挡所述颗粒物穿过的通孔。

2.根据权利要求1所述的去除装置，其特征在于：所述去除装置进一步包括：

气源，所述气源通过阀门、管路与所述壳体的内部连通。

3.根据权利要求2所述的去除装置，其特征在于：所述气源与所述腔体或下层阻挡部件下方的空间连通。

4.根据权利要求1所述的去除装置，其特征在于：所述颗粒物、腔体设置在水平方向上。

5.根据权利要求1所述的去除装置，其特征在于：所述腔体是管状、盘状。

6.根据权利要求1所述的去除装置，其特征在于：所述第一开关模块和/或第二开关模块是三通阀。

7.根据权利要求1-6任一所述的去除装置的维护方法，所述维护方法包括以下步骤：

(A1)向壳体内充入气体，使所述壳体内保持正压；

(A2)所述壳体内泄压，空腔内的气体剧烈膨胀，将积聚在一起的颗粒物的上层冲开，气体携带着被上层颗粒物截留的杂质穿过上层阻挡部件，之后从所述壳体内排出。

8.根据权利要求7所述的维护方法，其特征在于：在所述步骤(A2)中，下层阻挡部件下方的气体穿过、下层阻挡部件、积聚在一起的颗粒物、腔体，携带着被颗粒物截留的杂质穿过上层阻挡部件，之后从所述壳体内排出。

9.根据权利要求7所述的维护方法，其特征在于：在所述步骤(A1)中，向腔体内或下层阻挡部件下方的空间充入气体。