[发明专利]玻璃基板表面研磨方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种玻璃基板表面研磨方法，特别涉及一种用于去除玻璃基板表面波浪纹路的研磨方法。

背景技术

薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)是一种显示装置，其影像产生的原理乃是利用一片涂布着密集相间的红、绿、蓝三色的玻璃(Color Filter彩色滤光片)，与一片镀上电路的玻璃(TFT)接合，两片玻璃间灌入液晶，再于镀上电路的玻璃后面置一背光源，利用电压变化驱动两片玻璃间的液晶转动，当光穿透彩色滤光片，会产生色彩变化并显示出影像，而目前薄膜晶体管显示器所使用的玻璃基板，大多使用薄板浮式玻璃制程来制造，主要为液态材质密度差，将液态玻璃平整悬浮于液态金属锡槽，利用液态锡表面光滑的特性拉出玻璃基板，由于制程中玻璃会与液态锡接触，因此玻璃表面会产生波浪纹，必须经过研磨、抛光等后段加工，目前研磨加工其主要是将玻璃基板固定于一旋转台上，利用研磨片完全抵压罩覆于玻璃基板表面，让旋转台带动玻璃基板旋动时，研磨玻璃基板表面，以去除玻璃基板制程中所产生的波浪纹。

然而，薄膜晶体管显示器的尺寸越来越大，玻璃基板尺寸也相对的变大，而在玻璃基板的研磨过程中，研磨片会以移动方式来研磨玻璃基板表面，但常常会发生研磨不均匀的情形，经本发明的创作人不断研究后发现，玻璃基板在研磨过程中，研磨片移动时往往其覆盖玻璃基板的面积不平均，且越靠近玻璃基板的旋转中心处，不平均的情形越严重，请参阅图8所示，由图中可清楚看出，玻璃基板A在研磨加工时为呈现枢转状态(图中虚线箭号所示)，而研磨片B的位置为由玻璃基板A一侧表面抵压后，再朝向玻璃基板A的枢转中心移动至研磨片B’处(图中实心箭号所示)，也就是使研磨片B移动超过玻璃基板A的枢转中心后就停止研磨，以研磨片B所产生的研磨面积而言，只有玻璃基板A外侧部分才有受到研磨片B整面的研磨，而越靠近玻璃基板A的枢转中心受到的研磨量就越少，容易产生研磨加工不良之情形。

是以，要如何改善上述玻璃基板研磨加工的过程，以避免玻璃基板表面波浪纹无法有效去除的问题，即为从事此相关业者所亟欲研究解决的课题所在。

发明内容

本发明要解决的技术问题是，利用研磨片以移动研磨方式于玻璃基板两侧形成相等的研磨面积，进而让玻璃基板表面的波浪纹可有效的去除，并可防止玻璃基板中心处产生研磨不良的问题，以提高玻璃基板的研磨质量以及产品良率。

为达上述目的，本发明玻璃基板表面研磨方法，是先将待研磨的玻璃基板固定于旋转座上，使旋转座旋转带动玻璃基板旋动，而旋转座上方设置有研磨装置，研磨装置为枢设有研磨盘，研磨盘的直径至少等于待研磨的玻璃基板最长边的长度，且研磨盘周边两侧分别设置有起始点与终止点，且起始点与终止点所连成的直线为通过研磨盘的轴心；当研磨盘对旋转中的玻璃基板进行研磨时，为会先使研磨盘抵压至玻璃基板表面，并让研磨盘的起始点重迭于玻璃基板于旋转时的中心轴，再使研磨盘横向位移，位移方向为研磨盘的轴心朝向玻璃基板的中心轴直线位移，使研磨盘的轴心通过玻璃基板的中心轴后，并于研磨盘的终止点重迭玻璃基板的中心轴时，再将研磨盘抬离玻璃基板表面。

附图说明

图1为玻璃基板与旋转座的枢转示意图；

图2为本发明研磨方法的侧视动作示意图(一)；

图3为本发明研磨方法的上视动作示意图(一)；

图4为本发明研磨方法的侧视动作示意图(二)；

图5为本发明研磨方法的侧视动作示意图(三)；

图6为本发明研磨方法的侧视动作示意图(四)；

图7为本发明研磨盘的研磨范围以及路径示意图；

图8为公知研磨方法的示意图。

附图标记说明：1-玻璃基板；11-中心轴；2-旋转座；3-研磨装置；31-支臂；32-研磨盘；321-起始点；322-终止点；323-轴心；A-玻璃基板；B-研磨片；B’-研磨片。

具体实施方式

以下结合附图、实施例和试验数据，对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。

如图1-2所示，由图中可清楚看出，本发明的研磨方法是将待研磨的玻璃基板1固定于旋转座2上，使旋转座2于旋转时带动玻璃基板1旋动，而旋转座2上方设置有研磨装置3，研磨装置3设置有支臂31，支臂31枢接有研磨盘32，而研磨盘32的直径为等于待研磨的玻璃基板1最长边的长度，并于研磨盘32周边两侧分别设置有起始点321与终止点322，且起始点321与终止点322所连成的直线为通过研磨盘32的轴心323。