[发明专利]一种双极结晶体管及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110226834.0 申请日: 2011-08-09
公开(公告)号: CN102931225A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 张晋伟;詹景琳;吕晋贤;李明东;杜硕伦 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L29/73 分类号: H01L29/73;H01L21/331
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 一种 结晶体 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种双极结晶体管,包括:

一阱区;

一射电极;

一基电极;

一集电极,其中该射电极、该基电极与该集电极通过该阱区互相分开;以及

一导电层,位于该基电极与该集电极之间的该阱区上。

2.根据权利要求1所述的双极结晶体管,更包括一介电结构,位于该导电层与该阱区之间。

3.根据权利要求1所述的双极结晶体管,其中该导电层包括掺杂的多晶硅、金属硅化物或金属。

4.根据权利要求1所述的双极结晶体管,其中该射电极与该集电极具有一第一导电型,该基电极具有相反于该第一导电型的一第二导电型。

5.根据权利要求1所述的双极结晶体管,其中该阱区包括相邻近的一第一阱部分与一第二阱部分,该第一阱部分具有一第一导电型,该第二阱部分具有相反于该第一导电型的一第二导电型。

6.根据权利要求5所述的双极结晶体管,其中该导电层位于该第一阱部分上。

7.根据权利要求6所述的双极结晶体管,其中该导电层位于该第二阱部分上。

8.根据权利要求5所述的双极结晶体管,其中该集电极位于该第一阱部分中,该射电极与该基电极位于该第二阱部分中。

9.根据权利要求5所述的双极结晶体管,更包括一衬底与一埋藏层,其中该第一阱部分位于该二阱部分与该埋藏层之间,该埋藏层位于该衬底与该第一阱部分之间,该埋藏层具有该第一导电型,该衬底具有该第二导电型。

10.一种双极结晶体管的制造方法,包括:

形成一导电层于一阱区上;以及

形成一射电极、一基电极与一集电极于该阱区中,其中该射电极、该基电极与该集电极通过该阱区互相分开,该导电层位于该基电极与该集电极之间的该阱区上。

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