[发明专利]一种高温红外辐射釉料及其制备方法有效
| 申请号： | 201110227142.8 | 申请日： | 2011-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN102391017A | 公开（公告）日： | 2012-03-28 |
| 发明（设计）人： | 朱小平;蒋扬虎;欧阳德刚;陈建康;吴杰;丁翠娇 | 申请（专利权）人： | 武汉钢铁（集团）公司 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 钟锋;乔宇 |
| 地址： | 430080 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高温 红外 辐射 釉料 及其 制备 方法 | ||
1. 一种高温红外辐射釉料，其特征在于：其主要组成成分按重量百分比计为：玻璃鳞片5-40%、玻璃料10-17%、三氧化二铬17-30%、氟化钙 1-2%、搪瓷底釉6-23%、堇青石7-12%、高发射率材料5-10%、乳状纳米三氧化二铝0.4-2.0%，且玻璃鳞片+玻璃料22-50%。
2. 根据权利要求1所述的高温红外辐射釉料，其特征在于：其主要组成成分按重量百分比计为：玻璃鳞片8-33%、玻璃料13-17%、三氧化二铬20-28%、氟化钙 1-2%、搪瓷底釉17-22%、堇青石7-12%、高发射率材料5-10%、乳状纳米三氧化二铝0.8-1.5%，且玻璃鳞片+玻璃料 25-49%。
3. 根据权利要求1或2所述的高温红外辐射釉料，其特征在于：所述的玻璃鳞片为SiO2的重量百分数≥64%的玻璃鳞片。
4. 根据权利要求1或2所述的高温红外辐射釉料，其特征在于：所述的玻璃料为将回收废平板玻璃破碎、细磨处理的玻璃粉料，SiO2的重量百分数≥70%。
5. 根据权利要求1或2所述的高温红外辐射釉料，其特征在于：所述的高发射率材料是按重量百分数计由三氧化二铁30%、二氧化锰40%，三氧化二钴10%、氧化铜10%、二氧化铈10%混合后1260℃×1h的烧结产物。
6. 根据权利要求1或2所述的高温红外辐射釉料，其特征在于：所述的乳化纳米三氧化二铝是由纳米三氧化二铝粉体分散在水溶液中得到的重量百分比为15-25％的纳米三氧化二铝乳状液。
7. 根据权利要求1所述的高温红外辐射釉料的制备方法，其特征在于，依次包括以下步骤：
（1）将搪瓷底釉、堇青石、高发射率材料分别湿法球磨，滤出磨球，静置，除去球磨液，然后将球磨湿料烘干，碾细过筛，得到280-320目的细粉；将纳米三氧化二铝粉体均匀地分散在水溶液中，搅拌均匀，制成重量百分比为15-25％的纳米三氧化二铝乳状液；取过筛玻璃鳞片、过筛玻璃料、过筛三氧化二铬、过筛氟化钙，分别保存待用；
（2）按重量百分数计，将玻璃鳞片5-40%、玻璃料10-17%、三氧化二铬17-30%、氟化钙 1-2%、搪瓷底釉6-23%、堇青石7-12%、高发射率材料5-10%，乳状纳米三氧化二铝0.4-2.0%，且玻璃鳞片+玻璃料22-50%，混合搅拌均匀，即得高温红外辐射釉料。
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