[发明专利]研磨垫、研磨方法以及研磨系统

权利要求书

1.一种研磨垫，其与一载具环结合使用，用以研磨一基材，在研磨时该研磨垫具有一运动方向，其中该载具环具有至少一载具沟槽，该基材具有一基材半径，该研磨垫包括：

一研磨层；以及

一表面图案，位于该研磨层中，该表面图案具有多条横向沟槽，该些横向沟槽的各切线与该运动方向的切线具有一非零度夹角，且该些横向沟槽对应于该运动方向各具有一横向沟槽轨迹，该些横向沟槽轨迹各具有一轨迹宽度，该轨迹宽度小于该基材半径，

其中，在该载具环相对于该运动方向的一前端区域，该些横向沟槽具有至少一载具相容性沟槽，该至少一载具相容性沟槽与该至少一载具沟槽的位置对准。

2.根据权利要求1所述的研磨垫，其中该些横向沟槽是弧状沟槽或是直线沟槽。

3.根据权利要求2所述的研磨垫，其中该表面图案还包括至少一分隔空白区，该至少一分隔空白区将该些横向沟槽分隔开来，且该至少一分隔空白区的分布形状为环状、同心环状、不同心环状、椭圆环状、波浪环状、不规则环状、多条直线状、平行直线状、放射直线状、放射弧线状、螺旋状、多角格状、或其组合。

4.根据权利要求3所述的研磨垫，其中该表面图案还包括一边缘空白区，配置于该研磨层的边缘，该边缘空白区使该些横向沟槽不会延伸至该研磨层的边缘。

5.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的研磨垫，其中该表面图案还包括多条连接沟槽，该些连接沟槽与该些横向沟槽连接成锯齿状。

6.根据权利要求5所述的研磨垫，其中该些横向沟槽与该些连接沟槽构成的图案为环带、同心环带、不同心环带、椭圆环带、波浪环带、不规则环带、弧带、同心弧带、不同心弧带、椭圆弧带、波浪弧带、不规则弧带、线性带状、平行直线带、放射直线分隔扇状、放射弧线分隔扇状、螺旋带、多角格、或其组合。

7.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的研磨垫，其中该表面图案还包括至少一分隔空白区，该至少一分隔空白区将该些横向沟槽分隔开来，至少二个不完全重叠的该些沟槽轨迹的部分及该至少一分隔空白区的部分被该基材所覆盖。

8.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的研磨垫，其中该运动方向为一旋转方向沿着一旋转中心，该些横向沟槽各具有两端点自该旋转中心向外的一第一半径位置向外延伸至一第二半径位置，该第二半径与该第一半径的差值等于该轨迹宽度。

9.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的研磨垫，其中该运动方向为一线性Y方向，该些横向沟槽各具有两端点自该研磨垫的一X1位置延伸至一X2位置，|X2-X1|等于该轨迹宽度。

10.一种研磨垫，其与一载具环结合使用，用以研磨一基材，在研磨时该研磨垫具有一运动方向，其中该载具环具有至少一载具沟槽，该基材具有一基材半径，该运动方向垂直于自一基准点延伸的一坐标轴，该研磨垫包括：

一研磨层；以及

一表面图案，位于该研磨层中，该表面图案具有多条横向沟槽，该些横向沟槽各具有两端点分别位于该坐标轴的一第一位置及一第二位置，该第一位置与该基准点具有一第一距离，该第二位置与该基准点具有一第二距离，该第二距离大于该第一距离且与该第一距离的差值小于该基材半径，

其中，在该载具环相对于该运动方向的一前端区域，该些横向沟槽具有至少一载具相容性沟槽，该至少一载具相容性沟槽与该至少一载具沟槽的位置对准。

11.根据权利要求10所述的研磨垫，其中该些横向沟槽是弧状沟槽或是直线沟槽。

12.根据权利要求11所述的研磨垫，其中该表面图案还包括至少一分隔空白区，该至少一分隔空白区将该些横向沟槽分隔开来，且该至少一分隔空白区的分布形状为环状、同心环状、不同心环状、椭圆环状、波浪环状、不规则环状、多条直线状、平行直线状、放射直线状、放射弧线状、螺旋状、多角格状、或其组合。

13.根据权利要求12所述的研磨垫，其中该表面图案还包括一边缘空白区，配置于该研磨层的边缘，该边缘空白区使该些横向沟槽不会延伸至该研磨层的边缘。

14.根据权利要求10至13中任一权利要求所述的研磨垫，其中该表面图案还包括多条连接沟槽，该些连接沟槽与该些横向沟槽连接成锯齿状。