[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

传感器，所述传感器包括用以将辐射束沿传感器束路径投射至标记的发射器；

第一出口，用于提供沿所述传感器束路径的湍流流体流；

第二出口，用于提供基本上包围所述湍流流体流的层状流体流。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中，所述湍流和层流中的至少一个被热调节。

3.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述湍流流体流具有大于4000的雷诺数。

4.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述层流流体流具有小于2300的雷诺数。

5.如权利要求2-4中任一项所述的光刻设备，其中，所述第二出口配置成使得所述层流流体流基本上阻止未调节流体到达所述传感器束路径。

6.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述第一出口配置成使得所述湍流流体流包围所述传感器束路径。

7.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述第一出口包围所述发射器和标记中的至少一个。

8.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述第二出口包围第一出口。

9.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中，所述传感器还包括接收器，并且所述标记将来自所述发射器的辐射束反射至所述接收器。

10.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，还包括用以支撑衬底的台，并且其中所述传感器配置用以测量所述台相对于参照点的位置。

11.如权利要求10所述的光刻设备，其中，所述发射器和标记中的一个安装在所述台上，并且其中所述发射器和标记中的另一个相对于所述参照点以固定关系安装。

12.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，还包括浸没流体供给系统，所述浸没流体供给系统配置成在光刻设备的投影系统和衬底之间提供浸没流体，

其中第一出口和第二出口中的至少一个配置成使得从第一和第二出口中的至少一个流出的流体有效地移动在所述标记和发射器中的至少一个上的液滴，使得液滴不干扰辐射束。

13.一种光刻设备，包括：

台，布置成定位在投影系统下面；

流体供给系统，用以在投影系统和所述台之间提供流体；

传感器，用以测量所述台相对于参照位置的位置，所述传感器包括发射器和标记结构，所述标记结构包括标记，所述发射器相对于参照位置是固定的并且所述标记被定位在所述台上，或者所述发射器被定位在所述台上并且所述标记相对于参照位置是固定的；和

出口，用以提供气流以移动在所述标记结构和/或所述发射器上的液体液滴和/或阻止液体液滴移动到所述标记结构和/或所述发射器上。

14.一种器件制造方法，包括步骤：

将图案化辐射束投影到衬底上；

使用发射器将辐射束沿传感器束路径投射至标记来测量性质；

将具有第一特性的被热调节的流体的第一流提供至所述传感器束路径的至少一部分；和

在来自第一出口的被热调节的流体附近提供具有第二流动特性的被热调节的流体的第二流，第二流动特性与第一流动特性不同。

15.一种器件制造方法，包括步骤：

将图案化辐射束通过浸没液体投影至定位在台上的衬底上；

使用发射器发射辐射束到标记结构的标记上来测量所述台相对于参照位置的位置，其中所述发射器相对于参照位置是固定的且所述标记被定位在所述台上，或者所述发射器被定位在所述台上而所述标记相对于参照位置是固定的；

提供气流以移动在所述标记结构和/或所述发射器上的液体液滴和/或阻止液体液滴移动到所述标记结构和/或所述发射器上。