[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法、滤色器以及滤色器的形成方法无效
申请号: | 201110235558.4 | 申请日: | 2011-08-10 |
公开(公告)号: | CN102375340A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 米田英司;西信弘;儿玉诚一郎;猪俣克巳 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G02B5/20;G03F7/00 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 放射线 敏感性 树脂 组合 固化 形成 方法 滤色器 以及 | ||
1.一种放射线敏感性树脂组合物,其含有,
[A]碱可溶性树脂,其通过将(A1)选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐构成的群组中的至少1种化合物与(A2)含有环氧基的不饱和化合物共聚而得到、
[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、
[C]放射线敏感性聚合引发剂、
[D]下式(1)表示的化合物,和
[E]作为有机酸或无机酸的化合物,
其在25℃下的粘度为1.0mPa·s~50mPa·s,
在式(1)中,m为2~6的整数,其中,式(1)中的亚烷基所具有的部分或全部氢原子任选被有机基团取代。
2.如权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物,其中,[C]放射线敏感性聚合引发剂为O-酰基肟化合物。
3.如权利要求1所述的放射线敏感性树脂组合物,其中,在[A]碱可溶性树脂、[B]聚合性化合物和[C]放射线敏感性聚合引发剂中混和由[D]化合物和[E]化合物形成的脒盐进行制备。
4.如权利要求3所述的放射线敏感性树脂组合物,其中,上述脒盐为磺酸盐。
5.如权利要求1~4任意一项所述的放射线敏感性树脂组合物,其用于形成作为层间绝缘膜、保护膜或垫片的固化膜。
6.一种放射线敏感性树脂组合物的制造方法,其中,在[A]碱可溶性树脂、[B]聚合性化合物和[C]放射线敏感性聚合引发剂中混和由[D]化合物和[E]化合物形成的脒盐进行制备,该组合物在25℃下的粘度为1.0mPa·s~50mPa·s。
7.一种由权利要求5所述的放射线敏感性树脂组合物形成的作为层间绝缘膜、保护膜或垫片的固化膜。
8.一种滤色器,其具有权利要求7所述的固化膜和在该固化膜上层叠、通过液晶取向剂形成的取向膜。
9.如权利要求8所述的滤色器,其中,上述液晶取向剂为包含具有光取向性基团的放射线敏感性聚合物的液晶取向剂,或为包含没有光取向性基团的聚酰亚胺的液晶取向剂。
10.一种固化膜的形成方法,其具有,
(1)在基板上涂布权利要求5所述放射线敏感性树脂组合物,形成涂膜的工序;
(2)在上述涂膜的至少一部分上照射放射线的工序;
(3)将上述照射了放射线的涂膜显影的工序;和
(4)对上述显影的涂膜进行焙烧的工序。
11.如权利要求10所述的固化膜的形成方法,其中,上述工序(4)的焙烧温度为200℃以下。
12.一种滤色器的形成方法,其具有权利要求10所述的工序(1)~(4),和(5)在焙烧后的涂膜上涂布液晶取向剂,通过200℃以下的加热形成取向膜的工序。
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