[发明专利]阻抗匹配方法、用于该方法的阻抗匹配设备及记录介质有效
申请号: | 201110235760.7 | 申请日: | 2011-08-11 |
公开(公告)号: | CN102386876A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | 宋珠荣 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | H03H7/40 | 分类号: | H03H7/40 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 陈炜;李德山 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阻抗匹配 方法 用于 设备 记录 介质 | ||
1.一种阻抗匹配设备,包括:
阻抗匹配部分,所述阻抗匹配部分与用于发射/接收无线电波的天线相连接,并包括至少一个可变电容器;
检测器,用于检测发射功率以及由所述天线反射的反射功率;以及
控制器,用于设置在所述可变电容器的整个变化范围以内的第一搜索区域,通过使用所述发射功率和所述反射功率中的至少一个来检测所述第一搜索区域以内的最优阻抗匹配点,以及设置围绕所述最优阻抗匹配点的下个搜索区域,以搜索所述可变电容器的所述整个变化范围以内的最终阻抗匹配点。
2.根据权利要求1所述的阻抗匹配设备,其中所述阻抗匹配点包括表示最大发射功率的点、表示最大的所述发射功率与所述反射功率之间的差的点、以及表示最大的所述发射功率与所述反射功率的比率的点中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的阻抗匹配设备,其中所述第一搜索区域被设置成围绕所述可变电容器的所述整个变化范围以内的中间电容值的、具有预定尺寸的正方形形状。
4.根据权利要求1所述的阻抗匹配设备,其中所述控制器针对所述下个搜索区域以内的除了与先前设置的搜索区域相重叠的区域之外的剩余区域进行搜索操作。
5.根据权利要求1所述的阻抗匹配设备,其中如果所述阻抗匹配点位于当前搜索区域中的除了外围点之外的内部点处,则所述控制器确定所述阻抗匹配点为所述最终阻抗匹配点。
6.根据权利要求5所述的阻抗匹配设备,其中如果所述阻抗匹配点位于所述当前搜索区域的所述外围点处,则所述控制器通过设置围绕所述阻抗匹配点的所述下个搜索区域来继续进行搜索操作。
7.根据权利要求1所述的阻抗匹配设备,其中所述检测器包括定向耦合器。
8.根据权利要求1所述的阻抗匹配设备,其中所述阻抗匹配部分包括:
与所述天线串联连接的第一可变电容器;
与所述天线并联连接的第二可变电容器;以及
与所述第一可变电容器和所述第二可变电容器相连接的至少一个电感器。
9.根据权利要求8所述的阻抗匹配设备,其中所述控制器通过分别将与所述最终阻抗匹配点相对应的第一电容值和第二电容值应用于所述第一可变电容器和所述第二可变电容器来进行阻抗匹配。
10.一种阻抗匹配设备的阻抗匹配方法,所述阻抗匹配设备包括与天线相连接的可变电容器,所述阻抗匹配方法包括:
设置在所述可变电容器的整个变化范围以内的围绕特定点的第一搜索区域;
检测与所述第一搜索区域中包含的每个点相关的发射功率和反射功率;
通过使用所述发射功率和所述反射功率来搜索所述第一搜索区域以内的最优阻抗匹配点;以及
设置围绕所述阻抗匹配点的下个搜索区域,以搜索所述整个变化范围以内的最终阻抗匹配点。
11.根据权利要求10所述的阻抗匹配方法,其中所述搜索最优阻抗匹配点包括在所述第一搜索区域以内搜索表示最大发射功率的点、表示最大的所述发射功率与所述反射功率之间的差的点、以及表示最大的所述发射功率与所述反射功率的比率的点之一。
12.根据权利要求10所述的阻抗匹配方法,其中所述可变电容器包括第一可变电容器和第二可变电容器,并且所述第一搜索区域被设置成围绕所述第一可变电容器和所述第二可变电容器的中间电容值的、具有预定尺寸的正方形形状。
13.根据权利要求10所述的阻抗匹配方法,其中所述搜索最终阻抗匹配点包括:
如果所述阻抗匹配点位于当前搜索区域中的除了外围点之外的内部点处,则将所述阻抗匹配点确定为所述最终阻抗匹配点;
如果所述阻抗匹配点位于所述当前搜索区域的所述外围点处,则设置围绕所述阻抗匹配点的所述下个搜索区域,以搜索所述最终阻抗匹配点。
14.根据权利要求12所述的阻抗匹配方法,其中所述下个搜索区域包括在被设置成围绕所述阻抗匹配点的具有预定尺寸的正方形形状的区域以内的、除了与先前的搜索区域相重叠的区域之外的剩余区域。
15.根据权利要求10所述的阻抗匹配方法,还包括:如果检测到所述最终阻抗匹配点,则通过应用与所述最终阻抗匹配点相对应的电容值来进行阻抗匹配。
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