[发明专利]光电材料制备有效
申请号: | 201110235857.8 | 申请日: | 2011-08-15 |
公开(公告)号: | CN102936245A | 公开(公告)日: | 2013-02-20 |
发明(设计)人: | 陈永胜;万相见;刘永胜;李智;周娇艳;王菲;贺光瑞 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | C07D417/14 | 分类号: | C07D417/14;C07D333/22;C07D333/24;C07D409/14;C07D495/04;C07F7/10;C07D333/72;C07F7/22;C08G61/12;H01L51/30;H01L51/46 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;阴亮 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光电 材料 制备 | ||
1.选自通式(1)至通式(6)的给受体型寡聚噻吩化合物:
通式(1)
通式(2)
通式(3)
通式(4)
通式(5)
通式(6)
其中,n为1至50的整数,
R1和R2分别独立地选自H、C1-C30烷基、C3-C30环烷基、C1-C30烷氧基或其卤素取代的衍生物,其中R1和R2可以相同也可以不同,但是R1和R2不能同时为H,
D和D1分别独立地为桥连的共轭电子给体单元,
A和A1分别独立地为桥连的共轭电子受体单元,以及
A2为有机小分子染料基团。
2.如权利要求1所述的化合物,其中D和D1分别独立地选自基团7至基团17:
其中R3选自H、C1-C30烷基、C3-C30环烷基、C1-C30烷氧基或其卤素取代的衍生物。
3.如权利要求1或2所述的化合物,其中A和A1分别独立地选自基团18至基团22:
其中R4选自C1-C30烷基、C3-C30环烷基、C1-C30烷氧基或其卤素取代的衍生物。
4.如权利要求1-3中任一权利要求所述的化合物,其中A2选自基团23至基团46:
其中R5和R6分别独立地选自C1-C30烷基、C3-C30环烷基、C1-C30烷氧基或其卤素取代的衍生物,以及
X-为能够使A2形成中性基团的阴离子。
5.如权利要求1-4中任一权利要求所述的化合物,其中所述化合物的结构选自:
或者
其中,n为1至50的整数,
R1和R2分别独立地选自H、C1-C30烷基、C3-C30环烷基、C1-C30烷氧基或其卤素取代的衍生物,其中R1和R2可以相同也可以不同,但是R1和R2不能同时为H,
R3选自H、C1-C30烷基、C3-C30环烷基、C1-C30烷氧基或其卤素取代的衍生物,以及
R5选自C1-C30烷基、C3-C30环烷基、C1-C30烷氧基或其卤素取代的衍生物。
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