[发明专利]基板的激光修复装置以及激光修复方法

权利要求书

1.一种基板的激光修复装置，其特征在于：包括激光发射器和带有遮光图案的透光片；

其中，所述激光发射器发射的激光用于切割基板上电极的多余残留；

所述透光片位于所述激光发射器与所述基板之间，且所述透光片上的遮光图案与所述基板上电极的图案形状相同、大小成一定比例。

2.根据权利要求1所述的激光修复装置，其特征在于：还包括透光片转换器，用于转换带有不同遮光图案的透光片。

3.根据权利要求1所述的激光修复装置，其特征在于：还包括设置于所述激光发射器的发射端或激光发射器一侧的镜头。

4.根据权利要求3所述的激光修复装置，其特征在于：所述透光片设置于所述镜头上。

5.一种基板的激光修复方法，其特征在于，包括：

根据待修复的基板上电极的图案，选取带有遮光图案的透光片，其中所述电极的图案与所述遮光图案形状相同、大小成一定比例；

将所述透光片放置于激光发射器与所述基板之间；

调节所述透光片或所述基板的位置，使所述遮光图案在所述激光发射器发射的激光下的投影与所述电极的图案重合；

所述激光发射器向所述电极上的多余残留发射激光。

6.根据权利要求5所述的激光修复方法，其特征在于：所述激光发射器向所述电极上的多余残留发射激光，具体为：

设置多种不同面积的激光束；

根据所述电极上多余残留的面积，选取一种激光束；

所述激光发射器向所述电极上的多余残留发射所选的激光束。

7.根据权利要求5所述的激光修复方法，其特征在于：所述激光发射器向所述电极上的多余残留发射激光，具体为：

设置一种固定面积的激光束；

在所述电极上多余残留的四周围出一个目标区域，使所述多余残留的整体全部位于所述目标区域之内；

将所述目标区域分为若干子区域，每个所述子区域的面积等于或小于所述激光束的面积；

所述激光发射器依次向每个所述子区域发射所述激光束。