[发明专利]曝光工艺及装置

权利要求书

1.一种曝光工艺，其特征在于，将涂布有光刻胶的基板竖直设置，曝光用掩膜版与所述基板平行，使曝光机的光线照射方向垂直于所述掩膜版对所述光刻胶进行曝光。

2.如权利要求1所述的曝光工艺，其特征在于，所述将涂布有光刻胶的基板竖直设置具体为：将所述基板固定在水平的基板载台上，对所述基板载台进行90°翻转，实现基板竖直设置。

3.如权利要求1所述的曝光工艺，其特征在于，所述曝光用掩膜版与所述基板平行具体为：将所述掩膜版固定在水平的掩膜版载台上，对所述掩膜版载台进行90°翻转，实现掩膜版与基板平行。

4.一种曝光装置，包括固定被曝光基板的基板载台和固定掩膜版的掩膜版载台，其特征在于，所述基板载台竖直设置，所述掩膜版载台能够由水平面翻转至与所述基板载台平行。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包含有翻转架，所述翻转架设置在所述掩膜版载台与掩膜版载台安装座之间，由所述翻转架带动掩膜版载台在水平面和竖直面之间翻转。

6.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包含有翻转架，所述翻转架设置在所述基板载台与基板载台安装座之间，由所述翻转架带动基板载台在水平面和竖直面之间翻转。