[发明专利]一种投影曝光装置与拼接方法有效

专利信息
申请号: 201110241777.3 申请日: 2011-08-22
公开(公告)号: CN102955366A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 张俊;唐世弋;陈勇辉 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 投影 曝光 装置 拼接 方法
【权利要求书】:

1.一种投影曝光装置,用于在基底表面形成曝光图案,包括:可变狭缝,所述可变狭缝包括若干刀口,其特征在于,所述可变狭缝的刀口既可平移运动也可旋转运动,根据待曝光图案的排布,调整所述刀口来调整所述可变狭缝的视场的形状和尺寸,使得所述视场边缘从所述待曝光图案之间穿过或使得所述视场包含了所述待曝光图案区域;,从而使得所述视场之间的拼接线不穿过所述曝光图案。

2.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述刀口数目为四个,通过调整所述刀口得到菱形、矩形或梯形视场。

3.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述刀口数目为六个,通过调整所述刀口得到六边形视场。

4.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述刀口数目为三个,通过调整所述刀口得到三角形视场。

5.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述待曝光图案的排布为矩形或非矩形排布。

6.根据权利要求5所述的曝光装置,所述非矩形排布为菱形、六边形、三角形或梯形排布。

7.一种投影曝光方法,包括:

(1)将掩模加载到掩模台,所述掩模上具有待曝光图案;

(2)将基底加载到工件台;

(3)根据待曝光图案的排布,将可变狭缝中的刀口进行平移和/或旋转运动以调整所述可变狭缝的视场尺寸及形状,使得所述视场边缘从所述待曝光图案之间穿过或使得所述视场包含了所述掩模上待曝光图案区域;

(4)移动所述工件台,将所述基底所需曝光区域移动到所述掩模下方,对所述基底逐场曝光,直至整个基底被全部曝光。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,曝光方式为步进式或扫描式。

9.根据权利要求7所述的方法,其中,所述刀口数目为四个,通过调整所述刀口得到菱形、矩形或梯形视场。

10.根据权利要求7所述的方法,其中,所述刀口数目为六个,通过调整所述刀口得到六边形视场。

11.根据权利要求7所述的方法,其中,所述刀口数目为三个,通过调整所述刀口得到三角形视场。

12.根据权利要求7所述的方法,其中,所述待曝光图案的排布为矩形排布或非矩形排布。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述非矩形分布为菱形、六边形、三角形、或梯形排布。

14.根据权利要求13所述的方法,其中,所述非矩形排布为三角形排布或梯形排布,所述可变狭缝形成的视场的形状为相应的三角形或梯形,所述视场边缘从所述待曝光图案之间穿过,整个基底分为两个分别具有正立和倒立的三角形或梯形的区域,先对其中一个区域进行逐场曝光,将该区域完全曝光后旋转基底,再对另一区域进行逐场曝光,直至整个基底曝光完毕。

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