[发明专利]一种高温太阳能选择性吸收涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种高温选择性太阳能吸收涂层，其特征是：由下到上依次为红外高反射底层、光选择性吸收层和减反层，所述红外高反射底层为纯金属薄膜，所述光选择性吸收层包括两层NiCrAlY合金含量不同的NiCrAlY-M金属陶瓷薄膜，其中M为AlN或SiAl合金的氮化物，所述减反层为介质膜。

2.根据权利要求1所述的涂层，其特征是：纯金属薄膜为Au、Cu、Mo、Ni或W薄膜。

3.根据权利要求1所述的涂层，其特征是：所述红外高反射底层的厚度为150nm-600nm，光选择性吸收层的厚度为60nm-200nm，所述减反层的厚度为50nm-120nm。

4.根据权利要求1所述的涂层，其特征是：光选择性吸收层为两层NiCrAlY合金含量不同的NiCrAlY-M金属陶瓷薄膜，第一层中，NiCrAlY合金的含量为40～60摩尔%，厚度50nm-120nm，第二层吸收层中，NiCrAlY合金的含量为60～80摩尔%，厚度30nm-80nm。

5.根据权利要求1所述的涂层，其特征是： 所述介质膜为Al的氧化物、Al的氮化物或SiAl合金的氧化物。

6.根据权利要求5所述的涂层，其特征是：所述介质膜为SiAl合金的氧化物。

7.根据权利要求1所述的涂层，其特征是：NiCrAlY合金中，Cr的含量为15～25重量%，Al的含量为8%～14重量%，Y的含量为0.5%～1重量%，余量为Ni及偶存成分。

8.根据权利要求5所述的涂层，其特征是：光选择性吸收层和减反层所用的SiAl合金中，Al的含量为9～21wt%，Si的含量为78～90wt%，余量为偶存成分；减反层为SiAl合金的氧化物时，Al的含量为4～8 wt%，Si的含量为38～42 wt%，余量为O和偶存成分。

9.一种权利要求1所述的高温选择性太阳能吸收涂层的制备方法，采用真空磁控溅射技术进行制备，其特征是包括以下步骤：

（1）沉积红外高反射底层：将基材放入磁控溅射镀膜机中，真空腔室真空度达到高真空后，冲入氩气，用氩离子轰击金属靶表面，使金属原子溅射出来沉积于基材上；

（2）沉积光选择性吸收层：用氩气与氮气的混合气体轰击NiCrAlY合金靶与M靶，形成第一层NiCrAlY-M金属陶瓷薄膜，达到厚度后进行第二层的溅射，直至厚度达到要求；所述M靶为Al靶或SiAl合金靶；

（3）沉积减反层：用氩气与氮气或氧气的混合气轰击金属靶，溅射生成介质膜沉积于光选择性吸收层上。