[发明专利]化学气相沉积法涂层装置有效

专利信息
申请号: 201110246181.2 申请日: 2011-08-25
公开(公告)号: CN102953049A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 朴万成;黄宇哲;李成哲;金哲男;金上万;李权星;王宏刚 申请(专利权)人: 沈阳金研机床工具有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/44
代理公司: 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 代理人: 金春华
地址: 110045 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 化学 沉积 涂层 装置
【权利要求书】:

1.化学气相沉积法涂层装置,包括反应炉(1),其特征在于:反应炉(1)内设有支撑筒(3),支撑筒(3)上端设有排气帽(2),支撑筒(3)内从上到下依次为沉积区(4)、气体分配区(5)和预热区(6);沉积区(4)内:设有若干托盘(41),托盘(41)上设有若干通气孔Ⅰ(42);气体分配区(5)内:支架Ⅰ(54)固定挡板(53),挡板(53)上端安装至少三层隔板(51),支架Ⅱ(52)固定隔板(51),隔板(51)上设有若干通气孔Ⅱ(55);预热区(6)内:安装若干层预热板(63),进气管(61)的出口端与气体分配区(5)相通,支撑筒(3)在预热区部位的下端设有尾气入口(62),预热区(6)的下端设有尾气出口(64)。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积法涂层装置,其特征在于:在气体分配区(5)内:不同层隔板(51)上的通气孔Ⅱ(55)的孔径相同或不同。

3.如权利要求2所述的化学气相沉积法涂层装置,其特征在于:在气体分配区(5)内:从最下层隔板向最上层隔板,不同层隔板(51)上的通气孔Ⅱ(55)的孔径依次增加。

4.如权利要求1、2或3所述的化学气相沉积法涂层装置,其特征在于:设有加热炉(7),反应炉(1)置于加热炉(7)内。

5.如权利要求4所述的化学气相沉积法涂层装置,其特征在于:加热炉(7)分成若干段加热区,每段加热区由接线柱(71)、加热装置(73)和热电偶(72)组成。

6.如权利要求4所述的化学气相沉积法涂层装置,其特征在于:加热炉(7)内从内到外依次设有绝缘隔离层(74)、保温层Ⅰ(75)和保温层Ⅱ(76)。

7.如权利要求6所述的化学气相沉积法涂层装置,其特征在于:加热炉(7)分成若干段加热区,每段加热区由接线柱(71)、加热装置(73)和热电偶(72)组成。

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