[发明专利]一种增强型拉曼光谱测试片装置及测试片制作方法

权利要求书

1.一种增强型拉曼光谱测试片装置，包括多模光纤和裸光纤连接器，其特征在于：还包括连接支架和测试片；所述连接支架一端连有多模光纤，一端安置测试片；所述测试片包括一光学材料基底，其上设置有纳米量级的金属立柱阵列，并于该金属立柱阵列外表面镀一层惰性保护层。

2.一种增强型拉曼光谱测试片制作方法，其特征在于，包括以下步骤：a）在光学材料基底上镀金属膜层；b）在金属膜层上涂上光刻胶，并通过掩膜板进行曝光和清洗，获得覆盖于金属膜层上的光刻胶阵列；c）对光刻胶阵列下的金属膜层进行深度腐蚀处理，获得金属立柱阵列；d）去除多余的光刻胶阵列；e）在金属立柱阵列上覆盖一层惰性保护层。

3.如权利要求2所述的一种增强型拉曼光谱测试片制作方法，其特征在于：所述光学材料基底为K9玻璃或者SF11。

4.如权利要求2所述的一种增强型拉曼光谱测试片制作方法，其特征在于：所述惰性保护层为SiO₂膜层，其厚度为1nm~20nm。

5.如权利要求2所述的一种增强型拉曼光谱测试片制作方法，其特征在于：所述金属膜层为金、银或铜，其厚度为10nm~500nm。

6.如权利要求2所述的一种增强型拉曼光谱测试片制作方法，其特征在于：步骤a）中所述光学材料基底上镀金属膜层的方法为蒸镀法或者离子溅射法。

7.如权利要求2所述的一种增强型拉曼光谱测试片制作方法，其特征在于：步骤e）中所述覆盖惰性保护层的方法为气溶胶喷涂方式或者蒸镀法。

8.如权利要求2所述的一种增强型拉曼光谱测试片制作方法，其特征在于：所述光刻胶为正胶或者负胶。

9.如权利要求2所述的一种增强型拉曼光谱测试片制作方法，其特征在于：所述光刻胶阵列的尺寸为1μm~100μm。

10.如权利要求2所述的一种增强型拉曼光谱测试片制作方法，其特征在于：所述金属立柱间隔为1μm~100μm，金属立柱尺寸为1nm~100nm。