[发明专利]具有良好电化学性能的厚电极及其制备方法

权利要求书

1.一种具有良好电化学性能的厚电极，其包括集流体与分布在集流体上含有活性物质和导电物质的电极膜片，电极膜片包括靠近集流体的内层膜片和远离集流体的外层膜片，其特征在于：所述电极膜片的厚度大于300μm，且从内层膜片到外层膜片电极膜片的孔隙率增加。

2.根据权利要求1所述的厚电极，其特征在于：所述内层膜片的孔隙率为5%~10%，外层膜片的孔隙率为15%~30%。

3.根据权利要求1所述的厚电极，其特征在于：所述电极膜片的厚度为300 ~3000μm。

4.根据权利要求1所述的厚电极，其特征在于：所述内层膜片的离子转移电阻小于外层膜片的离子转移电阻。

5.根据权利要求1所述的厚电极，其特征在于：所述电极膜片还含有用于传输或存储电解液的电解液传导物质。

6.根据权利要求5所述的厚电极，其特征在于：所述电解液传导物质为碳纳米管和/或碳纤维。

7.根据权利要求1所述的厚电极，其特征在于：所述内层膜片的厚度为厚电极厚度的1%~90%，外层膜片的厚度为厚电极厚度的10%~99%。

8.根据权利要求1所述的厚电极，其特征在于：所述厚电极为正极，所述电极膜片还含有金属氧化物，金属氧化物包覆在活性物质颗粒的表面。

9.根据权利要求8所述的厚电极，其特征在于：所述内层膜片中导电物质的质量含量为2%~10%，外层膜片中导电物质的质量含量的0%~5%。

10.根据权利要求1所述的厚电极，其特征在于：从内层膜片到外层膜片所述电极膜片的电导率减小。

11.根据权利要求10所述的厚电极，其特征在于：所述内层膜片和外层膜片的导电物质相同，且内层膜片中导电物质的含量大于外层膜片中导电物质的含量。

12.一种具有良好电化学性能的厚电极的制备方法，其包括以下步骤：

a) 提供集流体；

b) 提供电极膜片组合物，电极膜片组合物中含有活性物质和导电物质；

c) 在集流体上涂覆一层或多层步骤b)的电极膜片组合物，经造孔和/或烘干，形成内层膜片，以及；

d) 在步骤c)制得的内层膜片上涂覆一层或多层步骤b)的电极膜片组合物，经造孔和/或烘干，形成外层膜片；

步骤d)中的外层膜片的孔隙率大于步骤c)中的内层膜片的孔隙率。

13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于：所述步骤c)和步骤d)中的造孔均为冷压处理，所述步骤c)中冷压处理的压力大于所述步骤d)中冷压处理的压力。

14.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于：所述步骤b)的电极膜片组合物中还含有造孔剂，所述步骤c)和步骤d)中的造孔均为加热烘干处理。

15.根据权利要求14所述的制备方法，其特征在于：所述造孔剂为苯甲酸、碳酸氢铵、偶氮二甲酰胺中的一种或几种。

16.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于：所述步骤b)的电极膜片组合物中还含有金属氧化物，金属氧化物选自三氧化二铝、氧化镁、氧化锌、氧化锆中的一种或几种。

17.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于：所述电极膜片组合物还含有用于传输或存储电解液的电解液传导物质。

18.根据权利要求12至17中任一项所述的制备方法，其特征在于：所述步骤d)中的外层膜片的电导率小于步骤c)中的内层膜片的电导率。

19.根据权利要求18所述的制备方法，其特征在于：所述内层膜片和外层膜片中的导电物质相同，且内层膜片中导电物质的含量大于外层膜片中导电物质的含量。