[发明专利]一种被动式气体成像系统无效

专利信息
申请号: 201110247808.6 申请日: 2011-08-24
公开(公告)号: CN102393375A 公开(公告)日: 2012-03-28
发明(设计)人: 方辉;雷述宇 申请(专利权)人: 北京广微积电科技有限公司
主分类号: G01N21/35 分类号: G01N21/35
代理公司: 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 代理人: 朱海波
地址: 100176 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 被动式 气体 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种被动式气体成像系统,包括:

红外成像单元,在所述红外成像单元前端设有红外光学镜头,所述红外光窗上有红外窄带滤光片,红外光窗和封装管壳构成一个封闭的壳体,非制冷式红外焦平面阵列芯片置于该封闭壳体内部,位于红外光学镜头的焦平面上,红外成像数字信号处理电路板置于封闭壳体外部,接收非制冷式红外焦平面阵列芯片通过封装管壳传过来的信号,并将处理过后的信号输出到中央处理单元;

可见光成像单元,在其前端设有可见光光学镜头,通过可见光光学镜头接收可见光,并将处理过的信号输出到中央处理单元;

中央处理单元,对红外成像单元和可见光成像单元输出的信号进行处理,并将处理好的红外图像和可见光图像叠加;

显示器,连接中央处理单元的输出端,显示其输出结果。

2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述红外光学镜头为远距离长焦镜头。

3.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述红外光学镜头的材料为锗(Ge)、硅(Si)、硫化锌(ZnS)或硒化锌(ZnSe)。

4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述红外光窗的材料为锗(Ge)、硅(Si)、硫化锌(ZnS)或硒化锌(ZnSe)。

5.根据权利要求4所述的红外光窗,其窄带滤波片可以镀在红外光窗的一面,也可以镀在其的两面,或不镀在红外光窗上,而是单独一片。

6.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述封闭壳体内部的压强小于1000Pa。

7.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述非制冷式红外焦平面阵列所用的热敏材料是氧化钒(VOx)或多晶硅(a-Si)。

8.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述红外成像单元包括红外光窗、管壳、非制冷红外焦平面阵列芯片、红外成像数字信号处理电路板。

9.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述红外窄带滤光片透过波长等于所要探测气体的吸收波长。

10.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述封闭的壳体内部处于真空状态。

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