[发明专利]Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜及其制作方法无效
申请号: | 201110250663.5 | 申请日: | 2011-08-29 |
公开(公告)号: | CN102955185A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 朱京涛;周斯卡;李浩川;王占山 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | G02B5/08 | 分类号: | G02B5/08;G02B1/10;B32B9/04;B32B15/00 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 林君如 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | mg mo sic 紫外 多层 反射 及其 制作方法 | ||
1.Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜,其特征在于,该反射镜由硅片或玻璃的基底(1)、打底层(2)及Mg/Mo/SiC周期多层膜(6)构成,所述的Mg/Mo/SiC周期多层膜(6)由多层厚度恒定的Mg膜(3)、Mo膜(4)及SiC膜(5)周期排列组成。
2.根据权利要求1所述的Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜,其特征在于,所述的硅片为超光滑的晶向为(100)的单晶硅片。
3.根据权利要求1所述的Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜,其特征在于,所述的打底层(2)镀制在基底(1)上,打底层(2)为厚度2-3纳米的SiC。
4.根据权利要求1所述的Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜,其特征在于,所述的Mg/Mo/SiC周期多层膜(6)镀制在打底层(2)上,每个周期自下而上镀制的第一层为Mg膜层,第二层为Mo膜层,最后一层为SiC膜层,周期数为30-40,Mg/Mo/SiC多层膜总厚度为450-640纳米。
5.根据权利要求1所述的Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜,其特征在于,所述的Mg膜层(3)的厚度为9-11纳米Mo膜层(4)的厚度为1-1.5纳米;SiC膜层(5)的厚度为3-4.5纳米。
6.如权利要求1所述的Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜的制作方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
1)在超光滑的硅片或玻璃基底(1)上镀制厚度为2-3纳米的SiC作为打底层(2);
2)在SiC的打底层(2)上镀制Mg/Mo/SiC周期多层膜(6),镀制每个周期时,镀制顺序依次为Mg,Mo,SiC,完成30-40周期的镀制,即可得到Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜。
7.根据权利要求6所述的Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜的制作方法,其特征在于,所述的打底层(2)及Mg/Mo/SiC周期多层膜(6)均采用直流磁控溅射方法进行镀制。
8.根据权利要求6所述的Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜的制作方法,其特征在于,所述的打底层(2)及Mg/Mo/SiC周期多层膜(6)所采用的Mg靶、Mo靶和SiC靶的材料纯度分别为99.95%,99.5%,99.5%。
9.根据权利要求6所述的Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜的制作方法,其特征在于,在镀制打底层(2)前基底(1)本底的真空度优于8E-5帕斯卡。
10.根据权利要求6所述的Mg/Mo/SiC极紫外多层膜反射镜的制作方法,其特征在于,所述的打底层(2)及Mg/Mo/SiC周期多层膜(6)在镀制过程中采用的工作气体为氩气,纯度为99.999%,镀制过程中工作气压恒为0.13帕斯卡。
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