[发明专利]光学部件、其制备方法和光学系统无效
| 申请号： | 201110253150.X | 申请日： | 2011-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN102385075A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 酒井明;中山宽晴 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B1/11;C03C17/22;C03C17/36 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 部件 制备 方法 光学系统 | ||
1.光学部件，包括：
光线有效区域；
光线无效区域；
在基材上配置以将该光线有效区域和至少部分该光线无效区域覆盖的至少一层连续的保护膜；
在位于该光线无效区域的保护膜上配置的遮光膜；和
在位于该光线有效区域的保护膜上配置的板状晶体膜，该板状晶体膜主要包括氧化铝并且在其表面上具有凹凸结构。
2.根据权利要求1的光学部件，其中该保护膜至少含有Si。
3.根据权利要求1的光学部件，其中该保护膜含有有机组分。
4.根据权利要求1的光学部件，其中该板状晶体膜具有凹凸结构，该凹凸结构主要包括铝的氧化物晶体、铝的氢氧化物晶体或水合氧化铝晶体。
5.根据权利要求1的光学部件，其中将含铝膜配置在位于该光线无效区域的保护膜和遮光膜之间。
6.包括光线有效区域和光线无效区域的光学部件的制备方法，该方法包括如下步骤：
在光线有效区域和至少部分光线无效区域形成至少一个连续的保护膜；
在位于该光线无效区域的保护膜上形成遮光膜；
在位于该光线有效区域的保护膜上形成含铝膜；和
使该含铝膜与热水接触以在位于该光线有效区域的保护膜上形成板状晶体膜，该板状晶体膜在其表面上具有凹凸结构并且主要包括氧化铝。
7.包括光线有效区域和光线无效区域的光学部件的制备方法，该方法包括如下步骤：
在光线有效区域和至少部分光线无效区域形成至少一个连续的保护膜；
在该保护膜上形成含铝膜；
在位于该光线无效区域的含铝膜上形成遮光膜；和
使位于该光线有效区域的含铝膜与热水接触以在位于该光线有效区域的保护膜上形成板状晶体膜，该板状晶体膜在其表面上具有凹凸结构并且主要包括氧化铝。
8.光学系统，包括：根据权利要求1的光学部件。
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