[发明专利]一种阻抗匹配元件有效

专利信息
申请号: 201110254416.2 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN102956983A 公开(公告)日: 2013-03-06
发明(设计)人: 刘若鹏;季春霖;岳玉涛;洪运南 申请(专利权)人: 深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司
主分类号: H01Q15/00 分类号: H01Q15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 阻抗匹配 元件
【权利要求书】:

1.一种阻抗匹配元件,用于超材料功能层,其特征在于:所述超材料功能层上折射率分布不均匀且具有最大折射率nmax与最小折射率nmin,所述阻抗匹配元件包括第一至第M层阻抗匹配层;所述第一至第M层阻抗匹配层包括相对的两片基材以及与所述两片基材构成密封腔的密封物;所述第一阻抗匹配层折射率等于空气折射率,所述第M层阻抗匹配层折射率等于所述超材料功能层折射率最小值。

2.如权利要求1所述的阻抗匹配元件,其特征在于:所述第一至第M层阻抗匹配层的厚度变化规律为等比变化,所述第一层阻抗匹配层的厚度最大,所述第M层阻抗匹配层的厚度最小。

3.如权利要求1所述的阻抗匹配元件,其特征在于:所述第一至第M层阻抗匹配层的厚度变化规律为等差变化,所述第一层阻抗匹配层的厚度最大,所述第M层阻抗匹配层的厚度最小。

4.如权利要求2或3所述的阻抗匹配元件,其特征在于:所述第一至第M层阻抗匹配层以及所述超材料功能层的厚度满足规律:

n0*d1+n1*d2+······+n(m-1)d(m-1)+nmin*dm+n(r)*A*D=K/2λ

其中,n0为空气折射率值,d1至dm为第一至第M阻抗匹配层各层厚度,n1至n(m-1)为第二至第(M-1)层阻抗匹配层的等效折射率值,nmin为超材料功能层的最小折射率值,D为每层超材料功能层所具有的相同厚度,A为超材料功能层的层数,K为正整数,λ为入射电磁波波长。

5.如权利要求1所述的阻抗匹配元件,其特征在于:所述密封物为泡沫。

6.如权利要求1所述的阻抗匹配元件,其特征在于:所述密封物的材质与基材材质相同。

7.如权利要求1所述的阻抗匹配元件,其特征在于:所述密封物为聚四氟乙烯。

8.如权利要求1所述的阻抗匹配元件,其特征在于:所述基材为高分子材料、陶瓷材料、铁电材料、铁氧材料或者铁磁材料。

9.如权利要求1所述的阻抗匹配元件,其特征在于:所述第一至第M层阻抗匹配层的总厚度为所响应电磁波波长的十分之一至五分之一。

10.如权利要求9所述的阻抗匹配元件,其特征在于:所述第一至第M层阻抗匹配层的总厚度为所响应电磁波波长的十分之一。

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