[发明专利]用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置及其方法无效
| 申请号： | 201110257345.1 | 申请日： | 2011-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN102965632A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 周军;傅昶 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 陆花 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 物理 沉积 磁场强度 稳定 装置 及其 方法 | ||
1.一种用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置，所述物理气相沉积腔室包括靶和磁体，所述靶具有有效表面，用以溅射靶材料，其特征在于，还包括：
侦测器，用以测量所述靶消耗的厚度值；
位置控制元件，根据所述靶消耗的厚度值调整所述靶和所述磁体之间的距离。
2.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置，其特征在于，所述位置控制元件包括数据接收单元，所述数据接收单元与所述侦测器信号连接，用以接收所述侦测器测量的靶消耗的厚度值。
3.根据权利要求1所述的用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置，其特征在于，所述位置控制元件还包括螺纹杆，用以调整所述靶和所述磁体之间的距离。
4.根据权利要求1至3中任一项的用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置，其特征在于，所述侦测器为称重器。
5.根据权利要求1至3中任一项的用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置，其特征在于，所述侦测器为红外线发生器。
6.根据权利要求1至3中任一项的用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定装置，其特征在于，所述侦测器为声学侧厚仪。
7.一种用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定的方法，包括：
利用侦测器测量靶消耗的厚度值，并将所述厚度值发送至位置控制元件；
所述位置控制元件根据所述厚度值调整所述靶和磁体之间的距离，使所述靶的有效表面磁场强度稳定。
8.根据权利要求7所述的用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定的方法，其特征在于，所述位置控制元件包括数据接收单元，所述数据接收单元与所述侦测器信号连接，用以接收所述侦测器测量的靶消耗的厚度值。
9.根据权利要求7所述的用于物理气相沉积腔室的靶磁场强度稳定的方法，其特征在于，所述位置控制元件还包括螺纹杆，用以调整所述靶和所述磁体之间的距离。
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