[发明专利]制备双氢青蒿素用反应釜无效
申请号: | 201110257890.0 | 申请日: | 2011-09-02 |
公开(公告)号: | CN102350292A | 公开(公告)日: | 2012-02-15 |
发明(设计)人: | 赵金召;彭学东;张梅;赵保国;杨学兵;陈成;赵金全 | 申请(专利权)人: | 江苏斯威森生物医药工程研究中心有限公司 |
主分类号: | B01J19/18 | 分类号: | B01J19/18;C07D493/20 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫;汪青 |
地址: | 215634 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 青蒿素 反应 | ||
技术领域
本发明涉及一种反应釜,特别是一种制备双氢青蒿素用反应釜。
背景技术
双氢青蒿素为青蒿素的还原产物,可用于各种类型的疟疾的症状控制,尤其是对抗氯喹恶性及凶险型疟疾有较好疗效,其在同类药物中,药效最强,也最安全。合成双氢青蒿素的重要途径之一是由青蒿素在硼氢化钠/甲醇体系中反生硼氢化还原反应制备。已知,硼氢化还原反应是一个放热反应,且反应放热大,因此,在反应时,必须将反应体系温度控制的较低,否则,很容易带来安全隐患和造成双氢青蒿素的降解。现有的反应釜,仅通过在釜体外设置的夹套内通入冷却液体来进行温度的控制,这种反应釜显然无法满足对硼氢化还原反应体系温度的迅速降低的要求。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种制备双氢青蒿素用反应釜,达到对釜体内物料迅速降温的目的。
为解决上述技术问题,本发明采取如下技术方案:
一种制备双氢青蒿素用反应釜,其包括釜架、架设在釜架上的釜体以及搅拌装置,其中釜体包括釜身和与釜身密封连接的釜盖,釜身的下部设有出料口,釜盖上设有进料口,在釜身外周还设有进水口和出水口的夹套,所述的反应釜还包括设置在釜体内的冷凝盘管,该冷凝盘管具有伸出釜体设置的冷凝液体入口和冷凝液体出口。
优选地,冷凝液体入口和冷凝液体出口分别位于釜身的下侧和上侧,冷凝盘管的中心线方向与釜身的高度方向一致。
更优地,冷凝盘管的材质为钛钢。
根据本发明进一步实施方案:搅拌装置为机械搅拌装置,其包括防爆电机、减速器、搅拌器,其中的搅拌器包括与减速器连接的搅拌轴和设置在搅拌轴上的搅拌叶片,且冷凝盘管位于搅拌器的外周。
由于以上技术方案的实施,本发明与现有技术相比具有如下优点:
本发明的反应釜,除了在釜体外设有可通冷凝液体的夹套外,还在釜体内还设置了冷凝盘管,当冷凝盘管内通入冷凝水或其它冷凝液体时,冷凝液体能与釜体内的物料直接发生热交换,将釜体内物料快速冷却。因此,本发明的反应釜,其降温速度快,用于制备双氢青蒿素时,安全性好,且能有效避免双氢青蒿素降解。
附图说明
下面结合附图和具体的实施例对本发明做进一步详细的说明。
图1为本发明反应釜的结构示意图;
其中:1、釜架;2、釜体;20、釜身;200、出料口;21、釜盖;210、进料口;3、搅拌装置;30、防暴电机;31、减速器;32、搅拌轴;4、夹套;40、进水口;41、出水口;5、冷凝盘管;50、冷凝液体入口;51、冷凝液体出口;6、视镜手孔;7、防暴视灯;8、进料管;9、清洗液管。
具体实施方式
如图1所示,按照本实施例的反应釜,其包括釜架1、架设在釜架1上的釜体2以及搅拌装置3,其中釜体2包括釜身20和与釜身20密封连接的釜盖21,釜身20的下部设有出料口200,釜盖21上设有进料口210,在釜身20外周还设有进水口40和出水口40的夹套4,该反应釜还包括设置在釜体2内的冷凝盘管5,该冷凝盘管5具有伸出釜体2设置的冷凝液体入口50和冷凝液体出口51,此外,为了实际的需要,还在釜盖21上设有视镜手孔6、防爆视灯7、以及清洗液进管9等。
上述反应釜的冷凝液体入口50和冷凝液体出口51分别位于釜身20的下侧和上侧,冷凝盘管5的中心线方向与釜身2的高度方向一致,为了长期使用冷凝盘管5的材质为钛钢,同时,本实施例中的搅拌装置3为机械搅拌装置,其包括防爆电机30、减速器31、搅拌器,其中的搅拌器包括与减速器31连接的搅拌轴32和设置在搅拌轴32上的搅拌叶片(图中未显示),且冷凝盘管5位于搅拌器的外周,不影响搅拌器的正常工作。
本实施例中的反应釜,除了在釜体2外设有可通冷凝液体的夹套4外,还在釜体2内还设置了冷凝盘管5,当冷凝盘管5内通入冷凝水或其它冷凝液体时,冷凝液体能与釜体2内的物料直接发生热交换,将釜体2内物料快速冷却。因此,本发明的反应釜,其降温速度快,用于制备双氢青蒿素时,安全性好,且能有效避免双氢青蒿素降解。
以上对本发明做了详尽的描述,其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明的精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。
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