[发明专利]负载型非茂金属催化剂、其制备方法及其应用有效
申请号: | 201110259258.X | 申请日: | 2011-08-31 |
公开(公告)号: | CN102964474A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 李传峰;任鸿平;陈韶辉;阚林;郭峰;左胜武;梅利;柏基业 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石化扬子石油化工有限公司 |
主分类号: | C08F10/00 | 分类号: | C08F10/00;C08F4/02;C08F4/658;C08F4/654;C08F4/656;C08F4/653;C08F4/646;C08F4/655;C08F4/645;C08F4/649 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孙秀武;李连涛 |
地址: | 210048 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 负载 型非茂 金属催化剂 制备 方法 及其 应用 | ||
1.一种负载型非茂金属催化剂的制备方法,包括以下步骤:
使镁化合物溶解于溶剂中,获得镁化合物溶液的步骤;
使任选经过热活化处理的多孔载体与所述镁化合物溶液接触,获得第一混合浆液的步骤;
使非茂金属配合物与所述第一混合浆液接触,获得第二混合浆液的步骤;
向所述第二混合浆液中加入沉淀剂,获得修饰复合载体的步骤,知
使选自IVB族金属化合物的化学处理剂与所述修饰复合载体反应,获得所述负载型非茂金属催化剂的步骤,
其中所述制备方法任选还包括在使所述化学处理剂与所述修饰复合载体反应之前,用选自铝氧烷、烷基铝或其任意组合的助化学处理剂预处理所述修饰复合载体的步骤。
2.按照权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述多孔载体选自烯烃均聚物或共聚物、聚乙烯醇或其共聚物、环糊精、聚酯或共聚酯、聚酰胺或共聚酰胺、氯乙烯均聚物或共聚物、丙烯酸酯均聚物或共聚物、甲基丙烯酸酯均聚物或共聚物、苯乙烯均聚物或共聚物、这些均聚物或共聚物的部分交联形式、元素周期表IIA、IIIA、IVA或IVB族金属的难熔氧化物或难熔复合氧化物、粘土、分子筛、云母、蒙脱土、膨润土和硅藻土中的一种或多种,优选选自部分交联的苯乙烯聚合物、二氧化硅、氧化铝、氧化镁、氧化硅铝、氧化镁铝、二氧化钛、分子筛和蒙脱土中的一种或多种,更优选选自二氧化硅。
3.按照权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述镁化合物选自卤化镁、烷氧基卤化镁、烷氧基镁、烷基镁、烷基卤化镁和烷基烷氧基镁中的一种或多种,优选选自卤化镁中的一种或多种,更优选氯化镁。
4.按照权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述溶剂选自C6-12芳香烃、卤代C6-12芳香烃、酯和醚中的一种或多种,优选选自C6-12芳香烃和四氢呋喃中的一种或多种,最优选四氢呋喃。
5.按照权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述非茂金属配合物选自具有如下化学结构式的化合物中的一种或多种:
优选选自具有如下化学结构式的化合物(A)和化合物(B)中的一种或多种:
更优选选自具有如下化学结构式的化合物(A-1)至化合物(A-4)和化合物(B-1)至化合物(B-4)中的一种或多种:
在以上所有的化学结构式中,
q为0或1;
d为0或1;
m为1、2或3;
M选自元素周期表第III族到第XI族金属原子,优选第IVB族金属原子,更优选Ti(IV)和Zr(IV);
n为1、2、3或4,取决于所述中心金属原子M的价态;
X选自卤素、氢原子、C1-C30烃基、取代的C1-C30烃基、含氧基团、含氮基团、含硫基团、含硼基团、含铝基团、含磷基团、含硅基团、含锗基团或含锡基团,多个X可以相同,也可以不同,还可以彼此成键或成环;
A选自氧原子、硫原子、硒原子、-NR23R24、-N(O)R25R26、-PR28R29、-P(O)R30OR31、砜基、亚砜基或-Se(O)R39,其中N、O、S、Se和P各自为配位用原子;
B选自氮原子、含氮基团、含磷基团或C1-C30烃基;
D选自氮原子、氧原子、硫原子、硒原子、磷原子、含氮基团、含磷基团、C1-C30烃基、砜基、亚砜基、-N(O)R25R26、或-P(O)R32(OR33),其中N、O、S、Se和P各自为配位用原子;
E选自含氮基团、含氧基团、含硫基团、含硒基团、含磷基团或氰基,其中N、O、S、Se和P各自为配位用原子;
F选自氮原子、含氮基团、含氧基团、含硫基团、含硒基团或含磷基团,其中N、O、S、Se和P各自为配位用原子;
G选自C1-C30烃基、取代的C1-C30烃基或惰性功能性基团;
Y选自氧原子、含氮基团、含氧基团、含硫基团、含硒基团或含磷基团,其中N、O、S、Se和P各自为配位用原子;
Z选自含氮基团、含氧基团、含硫基团、含硒基团、含磷基团或氰基,其中N、O、S、Se和P各自为配位用原子;
→代表单键或双键;
-代表共价键或离子键;
---代表配位键、共价键或离子键;
R1至R4、R6至R36、R38和R39各自独立地选自氢、C1-C30烃基、取代的C1-C30烃基或惰性功能性基团,上述基团彼此间可以相同也可以不同,其中相邻基团可以彼此结合在一起成键或成环,优选形成芳香族环,并且
R5选自氮上孤对电子、氢、C1-C30烃基、取代的C1-C30烃基、含氧基团、含硫基团、含氮基团、含硒基团或含磷基团;当R5为含氧基团、含硫基团、含氮基团、含硒基团或含磷基团时,R5中的N、O、S、P和Se可以作为配位用原子与所述中心IVB族金属原子进行配位,
所述惰性功能性基团选自卤素、含氧基团、含氮基团、含硅基团、含锗基团、含硫基团、含锡基团、C1-C10酯基或硝基,
所述非茂金属配合物进一步优选选自具有如下化学结构式的化合物中的一种或多种:
最优选选自具有如下化学结构式的化合物中的一种或多种:
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