[发明专利]光配向膜及其制作方法

权利要求书

1.一种光配向膜的制作方法，包括：

提供一光配向材料层，具有至少一像素对应部；以及

对该像素对应部进行不同配向方向的一全曝光制作工艺与一局部曝光制作工艺，

其中该全曝光制作工艺包括对该像素对应部的整体照光，

该局部曝光制作工艺包括对该像素对应部的一部分照光。

2.如权利要求1所述的光配向膜的制作方法，其中该光配向材料层的材质为一第二次配向主导的光配向材料，对该像素对应部进行不同配向方向的该全曝光制作工艺与该局部曝光制作工艺的步骤包括：

对尚未曝光过的该像素对应部进行该全曝光制作工艺，以使该像素对应部具有一第一配向方向；以及

之后，对该像素对应部进行该局部曝光制作工艺，以使该像素对应部的该部分具有一不同于该第一配向方向的第二配向方向。

3.如权利要求1所述的光配向膜的制作方法，其中该光配向材料层的材质为一第一次配向主导的光配向材料，对该像素对应部进行不同配向方向的该全曝光制作工艺与该局部曝光制作工艺的步骤包括：

对尚未曝光过的该像素对应部进行该局部曝光制作工艺，以使该像素对应部的该部分具有一第一配向方向；以及

之后，进行该全曝光制作工艺，以使该像素对应部的该部分以外的部分具有一不同于该第一配向方向的第二配向方向。

4.如权利要求1所述的光配向膜的制作方法，其中进行该全曝光制作工艺的步骤包括：

不使用光掩模而直接对该光配向材料层的整体照光。

5.如权利要求1所述的光配向膜的制作方法，其中进行该全曝光制作工艺的步骤包括：

利用一具有一开口的光掩模，对该像素对应部的整体照光，其中该开口至少暴露出该像素对应部的整体。

6.如权利要求1所述的光配向膜的制作方法，其中进行该局部曝光制作工艺的步骤包括：

利用一具有一开口的光掩模，对该像素对应部的该部分照光，其中该开口仅暴露出该像素对应部的该部分。

7.如权利要求1所述的光配向膜的制作方法，其中在该光配向材料层的单位照光面积中，该局部曝光制作工艺所施加的总照光能量大于该全曝光制作工艺所施加的总照光能量。

8.如权利要求7所述的光配向膜的制作方法，其中该局部曝光制作工艺的照光强度大于该全曝光制作工艺的照光强度。

9.如权利要求7所述的光配向膜的制作方法，其中该局部曝光制作工艺的照光时间大于该全曝光制作工艺的照光时间。

10.如权利要求1所述的光配向膜的制作方法，其中进行过该全曝光制作工艺与该局部曝光制作工艺的该像素对应部具有一曝光过一次的一次照光区以及一曝光过二次的二次照光区，且该部分位于该二次照光区，其中位于该一次照光区中的该光配向材料层具有一第一配向方向，该部分具有一不同于该第一配向方向的第二配向方向。

11.如权利要求10所述的光配向膜的制作方法，其中该第一配向方向相反于该第二配向方向。

12.如权利要求1所述的光配向膜的制作方法，其中该局部曝光制作工艺对该部分的照光面积与该全曝光制作工艺对该像素对应部的整体的照光面积的比值约为0.3～0.7。

13.如权利要求1所述的光配向膜的制作方法，其中提供该光配向材料层的方法包括：

将该光配向材料层形成于一液晶显示器的一第一基板上，

其中该液晶显示器包括该第一基板、一与该第一基板相对设置的第二基板、以及一夹于该第一基板与该第二基板之间的液晶层，该光配向材料层位于该第一基板与该液晶层之间。

14.一种光配向膜，包括：

至少一像素对应部，仅具有相连的一曝光过一次的一次照光区以及一曝光过二次的二次照光区，且该像素对应部的位于该一次照光区的部分具有一第一配向方向与一预倾角，该像素对应部的位于该二次照光区的部分具有一不同于该第一配向方向的第二配向方向与该预倾角。

15.如权利要求14所述的光配向膜，其中该第一配向方向与该第二配向方向方向相反。

16.如权利要求14所述的光配向膜，其中该一次照光区的面积相等于该二次照光区的面积。