[发明专利]使用喷嘴特性的割炬流量调节

权利要求书

1.等离子弧割炬的喷嘴，包括：

具有第一端和第二端的本体；

在本体的第一端上的等离子出口孔；和

在本体的第二端的凸缘，适于与相应的可消耗部件配合，该凸缘构造为选择性地阻断位于相应可消耗部件上的至少一个气体通道从而建立相对于喷嘴本体的气流。

2.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，凸缘包括带轮廓的、锥形或齿形表面中的至少一种，适于与相应可消耗部件的配合表面配合。

3.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，凸缘相对于喷嘴的外表面设置并且相对于沿着喷嘴本体延伸的纵轴线径向设置。

4.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，凸缘选择性地设定轮廓为用于调节绕喷嘴本体的外表面的防护气流或绕喷嘴本体的内表面的等离子气流中的至少一个。

5.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，凸缘形成相对于喷嘴的外表面设置的台阶，且所述台阶相对于沿着喷嘴本体延伸的纵轴线径向设置，其中，所述台阶调节喷嘴本体的外表面的防护气流。

6.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，凸缘为相对于延伸通过喷嘴本体的纵轴线轴向设置的伸出部，其中，伸出部调节绕喷嘴本体的内表面的等离子气流。

7.根据权利要求6所述的喷嘴，其特征在于，进一步包括相对于喷嘴的外表面设置的台阶，该台阶相对于延伸通过喷嘴本体的纵轴线径向设置，其中，该台阶调节绕喷嘴本体的外表面的防护气流。

8.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，相应的可消耗部件为漩涡环或者保持帽两者之一。

9.等离子弧割炬用的喷嘴保持帽，包括：

具有第一端和第二端的中空本体；

在中空本体的第一端的突起；

在突起中形成的第一孔型；和

在突起中形成的第二孔型，其中，在第一和第二孔型中的至少一个的孔尺寸设定成以控制喷嘴冷却气流或等离子气流中的至少一个。

10.根据权利要求9所述的喷嘴保持帽，其特征在于，第一孔型和第二孔型为同心圆。

11.根据权利要求9所述的喷嘴保持帽，其特征在于，第一孔型具有相对于延伸通过本体的中心纵轴线设置的第一直径，而第二孔型具有相对于沿本体延伸的中心纵轴设置的第二直径。

12.根据权利要求9所述的喷嘴保持帽，其特征在于，突起的表面构成为接纳设置在喷嘴本体上的凸缘，该凸缘的尺寸被设定为阻断气体使之不流过第一或第二孔型之一。

13.根据权利要求9所述的喷嘴保持帽，其特征在于，突起的表面设置成接纳喷嘴本体上的凸缘，该凸缘的尺寸被设定为允许气体流过至少第二孔型来冷却喷嘴。

14.根据权利要求9所述的喷嘴保持帽，其特征在于，突起的表面设置成接纳位于喷嘴本体上的凸缘，该凸缘的尺寸被设定为允许气体流过第一和第二孔型来冷却喷嘴。

15.根据权利要求9所述的喷嘴保持帽，其特征在于，突起的表面设置为接纳喷嘴本体上的凸缘，该凸缘的尺寸被设定为用于在相应的切割参数下操作等离子弧割炬。

16.根据权利要求9所述的喷嘴保持帽，其特征在于，第一孔型具有和第二孔型相同数目的气体通道。

17.根据权利要求9所述的喷嘴保持帽，其特征在于，第一孔型具有和第二孔型不同数目的气体通道。

18.根据权利要求9所述的喷嘴保持帽，其特征在于，第一孔型与第二孔型在孔的尺寸、孔的形状、孔的数目或者孔的切线角的至少一方面不同。

19.等离子弧割炬用的割炬头，该割炬头包括：

安装在等离子弧割炬本体中的喷嘴，该喷嘴包括喷嘴本体、位于喷嘴本体第一端的等离子出口孔、以及在喷嘴本体的第二端的凸缘；和

适于与喷嘴的凸缘配合的可消耗部件，该可消耗部件在一端具有表面，该表面具有第一孔型以及第二孔型，在第一和第二孔型中的至少一个的孔尺寸设置成控制喷嘴冷却气流或等离子气流中的至少一个。