[发明专利]一种集成尺寸量测和套刻精度检测的图形结构及检测方法

权利要求书

1.一种集成尺寸量测和套刻精度检测的图形结构，其特征在于，一内箱式套刻精度检测图形，所述内箱包括若干呈阵列式排列的孔，部分所述孔被填充。

2.根据权利要求1所述的结构，其特征在于，所述包含部分被填充孔的内箱中包括：

孤立孔，所述孤立孔相邻周围一圈的孔均被填充；

密集孔，所述密集孔相邻周围一圈的孔均未被填充，所述密集孔与其周围阵列式排列的未填充孔呈九宫格形结构；

半密集孔，所述半密集孔相邻周围一圈包括至少一填充孔以及至少一未填充孔。

3.根据权利要求1或2所述的结构，其特征在于，所述内箱宽度不小于10微米。

4.根据权利要求1或2所述的结构，其特征在于，所述若干孔排列组成的阵列为正方形。

5.一种权利要求1或2所述的的图形结构的使用方法，其特征在于，所述图形结构适用于0.25微米技术节点以下通孔和接触孔的光刻生产工艺，使用由孔构成的内箱式套刻精度检测图形来检测套刻精度或在光学显微镜下确定特征尺寸检测图形位置。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，用扫描式电子显微镜量测特征尺寸时，使用孤立孔、半密集孔或密集孔的特征尺寸检测图形来检测图形线宽。