[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其设置有多层单区，在该单区中，利用输送部件将被置于输入组件中的基板一张一张地输送到用于载置各基板且输送的顺序被确定的组件组中并交接到上述组件组的下游端的输出组件中，并且对基板进行相同的处理，其特征在于，

该基板处理装置包括：

多组件，其由多个组件构成，该多个组件包含于上述组件组，该多个组件的输送的顺序相同，并且用于对基板进行相同的处理；

后续组件，其设在上述组件组的下游侧；

基板载置部，其设在上述组件组的下游侧，用于载置多张基板；

第1交接部件，其用于向上述多个单区各自的输入组件进行基板的交付；

第2交接部件，其用于从上述多个单区各自的输出组件中取出基板，并输送到上述后续组件以及上述基板载置部；

控制部，其用于对上述输送部件、第1交接部件、第2交接部件进行控制，

上述控制部构成为通常时进行下述(1)的动作，上述单区所包含的多组件之中的至少一个组件成为不能使用的不可使用组件、并且至少另一个组件处于能够使用的状态时，进行下述(2)的动作，

(1)基板被第1交接部件以恒定的顺序交付到上述多个单区各自的输入组件中；

(2)(2-a)产生了不可使用组件之后，利用第1交接部件将基板交付到在多个单区之中最先成为能够载置的状态的输入组件中；

(2-b)在上述多个单区的每一个中，按照基板被交付到输入组件中的顺序，利用输送部件将基板依次输送到组件组中，并交接到输出组件中；

(2-c)按照基板被交付到输入组件中的顺序，利用第2交接部件将基板从输出组件中取出；

(2-d)将从上述输出组件中取出的基板或者利用第2交接部件直接输送到后续组件中、或者暂时输送到基板载置部之后输送到后续组件中，这样，按照通常时基板被第1交接部件交付到输入组件中的恒定的顺序，利用第2交接部件将基板输送到后续组件中。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述单区中，利用输送部件将基板从一个组件中取出，将下一个组件中的基板接收之后将前一个基板交接到该下一个组件中，这样，通过将被置于各组件中的基板移动到顺序靠后一位的组件中而执行一个输送循环，执行该一个输送循环之后，过渡到下一个输送循环，通过依次执行各输送循环，基板被从上述组件组中的顺序靠前的组件中依次输送到顺序靠后的组件中而进行规定的处理；

上述控制部包括：

存储部，其用于存储输送时间表，该输送时间表是通过对基板分配顺序、并且使基板的顺序与各组件相对应地将指定了输送循环的输送循环数据排列成时间序列而做成的；

输送控制部，其参照上述输送时间表并以将被写入输送循环数据的基板输送到与该基板相对应的组件中的方式控制上述输送部件，由此执行输送循环；

上述控制部构成为在上述单区所包含的多组件之中的至少一个组件成为不能使用的不可使用组件、并且至少另一个组件处于能够使用的状态时，进行下述(3)的动作，

(3)(3-a)在产生了不可使用组件的单区中，以不将基板输送到该不可使用组件中的方式对上述输送时间表进行改写；

(3-b)在上述多个单区中，被输入到输入组件中的基板与在当时正在使用的输送时间表中的在该输送循环中被置于输入组件中的基板不同时，以使上述被输入到输入组件中的基板与在该输送循环中被置于输入组件中的基板相同的方式对上述输送时间表进行改写。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置是涂覆-显影装置，该涂覆-显影装置包括用于在曝光之前将涂覆膜形成于基板的组件组、用于进行在曝光之后对基板实施的处理、即包含显影的处理的组件组，该涂覆-显影装置用于对基板涂覆抗蚀剂、并且对曝光后的基板进行显影，其中，用于形成上述涂覆膜的组件组以及用于进行包含显影的处理的组件组分别具有专用的输送路径，用于利用专用的输送部件在组件组之间进行基板的输送，

用于载置各基板且输送的顺序被确定的组件组是用于在曝光之前将涂覆膜形成于基板的组件组。