[发明专利]用于无水胶印制版的底涂液,其制备方法及其应用有效
申请号: | 201110268221.3 | 申请日: | 2011-09-09 |
公开(公告)号: | CN102994015A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 周海华;宋延林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C09J129/14 | 分类号: | C09J129/14;C09J175/04;C09J133/00;C09J161/06;C09J163/00;C09J161/28;C09J167/00;C09J167/08;C09J123/08;C09J131/04;C09J11/06;C09J11/04;B41C1 |
代理公司: | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 | 代理人: | 尹振启 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 无水 胶印 制版 底涂液 制备 方法 及其 应用 | ||
1.一种用于无水胶印制版的底涂液,以质量百分比记,该底涂液的组成及含量为:
2.根据权利要求1所述的底涂液,其特征在于:所述的聚合物选自聚乙烯醇缩丁醛、聚氨酯、聚丙烯酸树脂、聚甲基丙烯酸树脂、酚醛树脂、环氧树脂、三聚氰胺甲醛树脂、聚酯树脂、醇酸树脂或乙烯-醋酸乙烯共聚物。
3.根据权利要求1或2所述的底涂液,其特征是:所述的金属粘结力促进剂选自硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、芳基磷酸酯类、烷基磷酸酯类、锆铝酸盐类或锆酸盐类。
4.根据权利要求3所述的底涂液,其特征在于:所述的芳基磷酸酯类中的芳基为取代或未取代的芳基,优选选自苯基、甲苯基、萘基;所述烷基磷酸酯类中的烷基选自碳原子数为1~20的烷基链;所述的锆铝酸盐类选自锆铝酸钾、锆铝酸钠等,所述锆酸盐选自偏锆酸盐M2+ZrO3(其中M选自二价金属),焦锆酸盐M3+Zr2O7(其中M选自镧、铈、钕、钐),M43+Zr3O12(其中M选自钪、镱),Ti-ZrO4、V2ZrO7、Nb10ZrO27、MO2ZrO4、W2ZrO8。
5.根据权利要求1-4任一项所述的底涂液,其特征在于:所述的防光晕的纳米颗粒包括氧化铝、氧化锌、二氧化硅、氧化锆、二氧化钛或碳化硅。
6.根据权利要求1-5任一项所述的底涂液,其特征在于:所述溶剂选自醇类、酮类、醚类、酯类或烃类。优选所述醇类选自低级醇或多元醇,优选具有1~5个碳原子的一元醇或具有2~5个碳原子的二元或三元醇;所述酮类选自丙酮、丁酮、甲乙酮、环己酮、N-甲基吡咯烷酮(NMP);所述醚类选自醇醚,优选选自乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚;所述酯类选自羧酸酯类,优选乙酸乙酯、乙酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丁酯、丙二醇甲醚醋酸酯。所述烃类选自芳香烃,优选甲苯、二甲苯;所述烷烃优选正庚烷、正己烷。
7.权利要求1-6任一项所述的底涂液的制备方法,其特征在于:将聚合物、附着力促进剂、防光晕的纳米颗粒混合,充分搅拌、研磨,使底涂液的各组分充分溶解、分散。优选地,还进一步包括利用旋涂或辊涂的方式将底涂液涂布在经0.1~40wt%的氢氧化钠水溶液除油的版基上,然后50~150℃干燥3~50分钟。
8.根据权利要求7的制备方法,其特征在于,所述方法包括将底涂液涂布在无电解、阳极氧化处理的版基上。更优选地,在底涂液涂布后,继续在底涂液上涂布感光胶,优选阳图PS版感光胶;更优选继续在感光胶层上涂布硅橡胶层。
9.一种无水胶印制版版材,其特征在于,该版材包括:
版基,优选无电解、阳极氧化处理的版基;
权利要求1-6任一项的底涂液,其涂布在版基上;
感光胶,优选阳图PS版感光胶,其涂布在底涂液层上;和
任选地,硅橡胶层,其涂布在感光胶层上。
10.权利要求1~7任一项所述的底涂液在无水胶印制版中的应用。
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