[发明专利]一种钴掺杂钆钡铜氧超导薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201110269278.5 申请日: 2011-09-13
公开(公告)号: CN102424575A 公开(公告)日: 2012-04-25
发明(设计)人: 王文涛;赵勇;杨新福;蒲明华;张勇 申请(专利权)人: 西南交通大学
主分类号: C04B35/45 分类号: C04B35/45;C04B35/622
代理公司: 成都博通专利事务所 51208 代理人: 陈树明
地址: 610031 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 掺杂 钆钡铜氧 超导 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种钴掺杂钆钡铜氧超导薄膜的制备方法,其具体作法是:

a、无氟前驱溶液制备:将乙酸钆、乙酸钡、乙酸铜及乙酸钴,按钆∶钡∶铜∶钴的化学计量比1∶2∶3-X∶X,0.0003≤X≤0.008的比例溶解于丙酸中,得前驱溶液;

b、无氟涂层胶体制备:在a步制得的前驱溶液中,加入高分子材料聚乙烯醇缩丁醛,加入的聚乙烯醇缩丁醛与前驱溶液的质量比为2-8∶100,充分搅拌,得到涂层胶体;

c、涂敷及干燥:将b步制备的涂层胶体涂敷于基片上,在基片上形成薄膜,100-200℃下干燥,时间5-20分钟;

d、热分解处理与成相热处理:将干燥后的带薄膜基片进行热分解处理后再进行成相热处理,即得。

2.如权利要求1所述的一种钴掺杂钆钡铜氧超导薄膜的制备方法,其特征在于:所述d步的热分解处理的具体作法为:将c步干燥后的带薄膜基片置于管式炉中,在氩气气氛保护下,以1-5℃/min从室温升至100-150℃;然后向炉中通入露点为10-20℃的水蒸汽,同时通入氩气形成潮湿的氩气保护气氛,以0.25-1.5℃/min升温至450-500℃,保温0.5-2小时;随后再在干燥的氩气气氛中,自然冷却至室温。

3.如权利要求1所述的一种钴掺杂钆钡铜氧超导薄膜的制备方法,其特征在于:所述d步的成相热处理的具体作法为:将热分解处理后的基片,置于管式炉中通入干燥的氩气,将炉温以15-40℃/min快速升温至810-900℃,保温5-15分钟,对薄膜进行短时的高温热处理;再以1-15℃/min降温至760-800℃,保温1-3小时;然后在干燥的氩气保护气氛中,降温至350-500℃;最后将炉中气氛转变为干燥的氧气,保温1-5小时,然后冷却至室温。

4.如权利要求1所述的一种钴掺杂钆钡铜氧超导薄膜的制备方法,其特征在于:所述a步中的X的更佳取值范围为:0.0005≤X≤0.005。

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