[发明专利]清洗组合物有效
申请号: | 201110270579.X | 申请日: | 2011-08-31 |
公开(公告)号: | CN102965214A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 尹嚆重;洪宪杓;房淳洪;金炳默 | 申请(专利权)人: | 东友FINE-CHEM股份有限公司 |
主分类号: | C11D7/26 | 分类号: | C11D7/26;C11D7/32;C11D7/50;C11D7/60 |
代理公司: | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人: | 郑立;高为华 |
地址: | 韩国全罗北道*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 组合 | ||
技术领域
本发明涉及一种清洗组合物,更具体地,涉及一种用于诸如液晶显示器,等离子体显示器,柔性显示器和类似显示器的平板显示器(在下文中,称之为“FPDs”)的清洗组合物。
背景技术
FPDs,其典型实例是液晶显示器(LCDs),是通过膜形成,曝光,蚀刻以及诸如此类与半导体装置同样的工艺制造的。但是,在这些工艺中,具有1μm或以下尺寸的各种有机或者无机粒子附着到基板的表面,从而导致基板的污染。当带着附着其上的粒子进行随后的工艺时,在膜上形成针孔或坑,及线路断裂或桥接,从而降低产品良率。因此,为了除去这些粒子,实施清洗工艺,因而开发出各种清洗剂。
这些清洗剂的除去有机或无机微粒的能力必须是优异的,且它们必须不腐蚀基板或由铝、铝合金、铜、铜合金或者类似物制成的且形成于基板上的金属线。此外,为了容易地实施随后的工艺,需要这些清洗剂提高清洗后基板的涂布性能。
韩国专利登记号10-0305314公开了一种包括不含金属离子的碱性水溶液和具有2至10个羟基(-OH)的多羟基基团的清洗剂。但是,由于这种清洗剂不包含诸如乙二醇醚的有机溶剂,所以存在的问题是其不具有足够的除去诸如油及其类似物的有机污染物的能力,和其不能充分显示出在清洗后赋予基板表面亲水性的效果。
此外,韩国专利登记号10-073052公开了一种包括乙二醇醚,水溶性有机溶剂和铵基化合物的清洗剂。然而,这种清洗剂在其能够被有效使用在除去光致抗蚀剂工艺方面是有利的,但在其未赋予基板表面亲水性方面和大量的有机溶剂残留在基板上方面是有问题的,因而增加了基板的表面接触角。
此外,韩国专利登记号10-0522845公开了一种清洗剂,包括:选自胺类和氟化物的至少一种溶解促进剂;和水溶性高分子化合物如聚乙烯吡咯烷酮。但是这种清洗剂也有问题,硅基玻璃基板或者氮化硅膜被添加的氟化物腐蚀,和金属如铜也被腐蚀。
发明内容
因此,想出了本发明以解决上述问题,本发明的目的是提供一种清洗剂,其具有除去在制造FPD基板工艺过程中污染玻璃基板或者金属膜的有机污染物或者粒子的优异能力,其具有防止由铝、铝合金、铜、铜合金或者类似物制成的金属线被腐蚀的优异能力,和其具有赋予基板表面亲水性以提高清洗后基板的涂层性能的优异能力。
为了完成以上目的,本发明的一个方面提供了一种能赋予基板的表面亲水性的清洗组合物,包括:基于组合物总量,0.0001~5wt%的选自由聚乙烯醇、聚乙二醇(PEG)、纤维素、聚丙烯酸(PAA)、聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮组成的组中的至少一种水溶性高分子化合物;0.01~5wt%的多元醇化合物;0.05~10wt%的氢氧化季铵;0.05~40wt%的由以下分子式1表示的乙二醇醚基有机溶剂;和剩余的水。
分子式1
其中R1是甲基或乙基,R2是氢原子,n是2至5的整数,x是1至5的整数。
本发明的另一个方面提供了一种制造用于液晶显示器的阵列基板的方法,包含使用所述的清洗组合物清洗基板的步骤。
附图说明
由结合附图的以下的详细说明将更清楚地理解本发明的以上和其他的目的,特征和优点,其中:
图1是显示了使用根据本发明的实例16的清洗组合物从基板上除去油性笔污染物的结果的照片;
图2是显示了用来评估有机膜对被本发明的清洗组合物清洗过的基板的涂布能力的喷墨打印机示意图;
图3是显示了评估有机膜对被本发明的清洗组合物清洗过的基板的涂布能力的方法的示意图。
具体实施方式
在下文中,根据附图详细地说明本发明的优选的实施方式。
本发明提供一种能赋予基板的表面亲水性的清洗组合物,包括:基于组合物总量,(a)0.0001~5wt%的选自由聚乙烯醇、聚乙二醇(PEG)、纤维素、聚丙烯酸(PAA)、聚乙基噁唑啉和聚乙烯吡咯烷酮组成的组中的至少一种水溶性高分子化合物;(b)0.01~5wt%的多元醇化合物;(c)0.05~10wt%的氢氧化季铵;(d)0.05~40wt%的由以下分子式1表示的乙二醇醚基有机溶剂;和(e)剩余的水。
分子式1
其中R1是甲基或乙基,R2是氢原予,n是2至5的整数,x是1至5的整数。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东友FINE-CHEM股份有限公司,未经东友FINE-CHEM股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110270579.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:通过甩动方式打开应用的移动终端
- 下一篇:多模式QAM统一星座图标签调制器