[发明专利]调整承印物上图像光泽度的方法及在承印物上成像的装置有效

专利信息
申请号: 201110272027.2 申请日: 2011-09-01
公开(公告)号: CN102442078A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 布莱恩·J·洛夫;雅克·K·韦伯斯特-科里;大卫·M·汤普森 申请(专利权)人: 施乐公司
主分类号: B41J2/21 分类号: B41J2/21;B41M7/02
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠
地址: 美国康*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 调整 承印 图像 光泽 方法 成像 装置
【说明书】:

技术领域

发明总体上涉及印刷工艺。

背景技术

在印刷工艺中,标记材料施加于承印物(substrate)以形成图像。在这些工艺中,通过接触面对承印物和标记材料施加压力以整平(level)承印物上的标记材料。该标记材料可粘脏(offset)到接触面,导致不符合要求的定影图像。

期望提供在印刷过程中在承印物上形成图像的方法以及用于在承印物上形成图像的装置,该方法和装置可以利用墨形成具有可调光泽度的图像。

发明内容

提供了用于在印刷过程中在承印物上形成图像的装置和方法。该装置的典型实施方式包含第一标记站(first marking station)、第一部分固化站(first partial-curing station)、第二标记站、第二部分固化站、整平器件(leveling device)以及整平后固化器件(post-leveling curing device),其中,第一标记站用于将具有第一颜色的第一墨施加到承印物的表面;第一部分固化站位于第一标记站下游,包括第一发光二极管(LEDs)的至少一个第一阵列,用于利用第一辐射辐照承印物表面上的第一墨以部分固化第一墨以及调整第一墨的光泽度,当承印物经过第一LEDs的所述至少一个第一阵列时,第一LEDs的每个第一阵列的每个第一LED均可单独寻址以使发出的第一辐射的强度可变;第二标记站位于第一部分固化站下游,用于将具有第二颜色的第二墨施加到承印物的表面;第二部分固化站位于第二标记站下游,包括第二LEDs的至少一个第二阵列,用于利用第二辐射辐照承印物表面上的第一墨和第二墨以进一步部分固化第一墨以及部分固化第二墨以调整第一墨和第二墨的光泽度,当承印物经过第二LEDs的所述至少一个第二阵列时,第二LEDs的每个第二阵列的每个第二LED均可单独寻址以使发出的第二辐射的强度可变;整平器件用于对承印物和部分固化了的第一墨和第二墨施加压力以整平承印物表面上的第一墨和第二墨;整平后固化器件用于辐照承印物表面上已整平的第一墨和第二墨以基本上完全固化第一墨和第二墨。

附图说明

图1描绘了利用图像的墨部分固化(ink partial-curing)和接触式整平(contact leveling)在承印物上形成图像的印刷装置的典型实施方式。

图2描绘了图1所示印刷装置的标记/部分固化器件的典型实施方式。

图3描绘了标记/部分固化器件的典型的标记站和部分固化站。

图4描绘了可由图2所示标记/部分固化器件的部分固化站的辐射能量源发出的辐射能的典型能谱。

图5示出了承印物,该承印物包含有正面,在进入整平器件的压区(nip)之前在该正面上施加墨;同时该图也示出了经过压区之后的承印物。

具体实施方式

公开的实施方式包括用于在印刷过程中在承印物上形成图像的装置。该装置的典型实施方式包含第一标记站、第一部分固化站、第二标记站、第二部分固化站、整平器件以及整平后固化器件。其中,第一标记站用于将具有第一颜色的第一墨施加到承印物的表面;第一部分固化站位于第一标记站下游,包括第一发光二极管(LEDs)的至少一个第一阵列,用于利用第一辐射辐照承印物表面上的第一墨以部分固化第一墨以及调整第一墨的光泽度,当承印物经过第一LEDs的所述至少一个第一阵列时,第一LEDs的每个第一阵列的每个第一LED均可单独寻址以使发出的第一辐射的强度可变;第二标记站位于第一部分固化站下游,用于将具有第二颜色的第二墨施加到承印物的表面;第二部分固化站位于第二标记站下游,包括第二LEDs的至少一个第二阵列,用于利用第二辐射辐照承印物表面上的第一墨和第二墨以进一步部分固化第一墨以及部分固化第二墨以调整第一墨和第二墨的光泽度,当承印物经过第二LEDs的所述至少一个第二阵列时,第二LEDs的每个第二阵列的每个第二LED均可单独寻址以使发出的第二辐射的强度可变;整平器件用于对承印物和部分固化了的第一墨和第二墨施加压力以整平承印物表面上的第一墨和第二墨;整平后固化器件用于辐照承印物表面上已整平的第一墨和第二墨以基本上完全固化第一墨和第二墨。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于施乐公司,未经施乐公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110272027.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top