[发明专利]冷却设备和图像形成装置有效
申请号: | 201110273902.9 | 申请日: | 2011-09-09 |
公开(公告)号: | CN102402171A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 冈野觉;竹原贤一;饭岛泰明;藤谷博充;汤浅庆祐;平泽友康;齐藤政范;铃木伸五;池田圭介 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G21/20 | 分类号: | G03G21/20;G03G15/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民;张全信 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 冷却 设备 图像 形成 装置 | ||
1.液体冷却型冷却设备(9),其包括:
冷却温度升高部位的冷却剂的循环路径(36);
通过所述冷却剂从所述温度升高部位吸收热的吸热单元(31);
散发来自所述冷却剂的热的散热单元(30);
使所述冷却剂循环的泵(32);和
与所述冷却剂接触的多个接触液体的金属部位,每个所述接触液体的金属部位由金属材料制成,其中
至少一个所述接触液体的金属部位是接地的。
2.根据权利要求1所述的冷却设备(9),其中所述多个接触液体的金属部位彼此电绝缘。
3.根据权利要求1所述的冷却设备(9),其中至少所述接触液体的金属部位的一部分是接地的,所述部分布置在被保护免受静电荷影响的设备或者元件的附近。
4.根据权利要求2或者3所述的冷却设备(9),传导性屏蔽元件(40)放置在接地的接触液体的金属部位的部分——该部分未接地,和所述被保护免受静电荷影响的设备或者元件之间。
5.根据权利要求2或者3所述的冷却设备(9),其中所述接触液体的金属部位的一部分——该部分未接地——容纳在第一外壳(101)中,所述第一外壳(101)不同于在其中容纳所述被保护免受静电荷影响的设备或者元件的第二外壳(102)。
6.根据权利要求1所述的冷却设备(9),其中
每个所述接触液体的金属部位是接地的,和
每个所述接触液体的金属部位由相同种类金属材料制成。
7.根据权利要求1所述的冷却设备(9),其中
每个所述接触液体的金属部位是接地的,和
所述接触液体的金属部位的一部分——该部分布置在被保护免受冷却剂粘附的设备或者元件的附近——由电离倾向比所述接触液体的金属部位的其他部分的电离倾向更低的金属材料制成。
8.根据权利要求7所述的冷却设备(9),还包括隔离元件(42),其布置在所述接触液体的金属部位的所述其他部分和所述被保护免受冷却剂粘附的设备或者元件之间,所述接触液体的金属部位的所述其他部分由这样的金属材料制成,该金属材料的电离倾向比布置在所述被保护免受冷却剂粘附的设备或者元件附近的所述接触液体的金属部位的部分的电离倾向更高,所述隔离元件(42)防止所述冷却剂粘附于所述设备或者元件。
9.根据权利要求7所述的冷却设备(9),其中由具有更高电离倾向的金属材料制成的所述接触液体的金属部位的所述其他部分容纳在第一外壳(101)中,所述第一外壳(101)不同于在其中容纳所述被保护免受冷却剂粘附的设备或者元件的第二外壳(102)。
10.根据权利要求7到9任一项所述的冷却设备(9),还包括渗漏流体的容器(43),其保存从所述接触液体的金属部位渗漏的所述冷却剂。
11.根据权利要求7到9任一项所述的冷却设备(9),还包括流体检漏仪(44),其探测所述冷却剂从所述接触液体的金属部位的渗漏。
12.图像形成装置,其包括根据权利要求1到3和权利要求6到9任一项所述的冷却设备(9)。
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