[发明专利]一种光刻胶组合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括：

光刻胶，所述光刻胶作为连续相；

和金属盐类光致发光离子，所述金属盐类光致发光离子作为分散相，所述金属盐类光致发光离子是具有光致发光性能的金属盐类离子；

所述金属盐类光致发光离子分散于所述光刻胶，所述金属盐类光致发光离子在所述光刻胶中的质量体积浓度为0.0005～0.004g/mL。

2.如权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于：所述光刻胶是紫外正性光刻胶。

3.如权利要求1所述的光刻胶组合物，其特征在于：所述金属盐类光致发光离子是具有光致发光性能的铯盐离子、钆盐离子、铒盐离子、铊盐离子、钇盐离子中的一种。

4.一种制备如权利要求1～3任一项所述的光刻胶组合物的方法，其特征在于，包括以下步骤：

a)、取有机溶剂，所述有机溶剂是既可以溶解所述金属盐类光致发光离子、又可以与所述光刻胶混溶的有机溶剂，用所述有机溶剂溶解所述金属盐类光致发光离子，溶解均匀，得到金属盐类光致发光离子的有机溶剂溶液；

b)、将所述金属盐类光致发光离子的有机溶剂溶液与所述光刻胶混溶，混合均匀，得到金属盐类光致发光离子的有机溶剂溶液与光刻胶的混溶物；

c)、将所述金属盐类光致发光离子的有机溶剂溶液与光刻胶的混溶物加热去除所述有机溶剂，得到所述光刻胶组合物。

5.如权利要求4所述的光刻胶组合物的制备方法，其特征在于：所述有机溶剂是醚类溶剂。

6.如权利要求4所述的光刻胶组合物的制备方法，其特征在于：所述有机溶剂与所述光刻胶的体积比为1∶5～1∶20。

7.如权利要求4所述的光刻胶组合物的制备方法，其特征在于：在所述光刻胶组合物中，所述金属盐类光致发光离子在所述光刻胶组合物中的质量体积浓度为0.0005g/mL～0.004g/mL。

8.如权利要求4所述的光刻胶组合物的制备方法，其特征在于：在所述步骤b)中，将所述金属盐类光致发光离子的有机溶剂溶液与所述光刻胶混溶所采用的方法是超声混溶或磁搅拌混溶。

9.如权利要求4所述的光刻胶组合物的制备方法，其特征在于：在所述步骤c)中，加热去除所述有机溶剂是加热到80℃～105℃，保持30～60min。

10.权利要求1～3之一所述的光刻胶组合物在集成电路光刻中的应用。

11.一种提高光刻胶的光刻分辨率的方法，其特征在于，在光刻胶中掺杂金属盐类光致发光离子，所述金属盐类光致发光离子是具有光致发光性能的铯盐离子、钆盐离子、铒盐离子、铊盐离子、钇盐离子中的一种。