[发明专利]电容式触摸屏的加工方法无效
申请号: | 201110276325.9 | 申请日: | 2011-09-19 |
公开(公告)号: | CN102992616A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 刘建国;刘生明 | 申请(专利权)人: | 昆山海天光电科技有限公司 |
主分类号: | C03C3/078 | 分类号: | C03C3/078;C03C17/00;G06F3/044 |
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地址: | 215311 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电容 触摸屏 加工 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种电容式触摸屏的加工方法,属于触摸屏领域。
背景技术
现有技术中,电容式触摸屏是在玻璃表面贴上一层透明的特殊金属导电物质。当手指触摸在金属层上时,由于人体电场,用户和触摸屏表面形成以一个耦合电容,对于高频电流来说,电容是直接导体,于是手指从接触点吸走一个很小的电流。这个电流分从触摸屏的四角上的电极中流出,并且流经这四个电极的电流与手指到四角的距离成正比,控制器通过对这四个电流比例的精确计算,得出触摸点的位置。从电容式触摸屏结构组成来看,其玻璃基板占有很大比重;随着技术的更新,电容式触摸屏中玻璃基板趋于超薄化,但是由于超薄化带来的弊端也显而易见,力学强度的降低,在降低重量、减小体积的同时,杂质、缺陷以及任何降低玻璃强度的负面因素都会被放大。比如:一个小小的裂纹或缺陷对于普通厚度的玻璃来说只是表面上一个微不足道的瑕疵,但相对于超薄玻璃来说,同样大小的裂纹却可能已经深人玻璃内部,对其强度造成无法忽视的破坏。这直接造成了超薄玻璃在抗折强度、表面硬度等力学性能指标上明显落后于普通的平板玻璃,这给电容式触摸屏发展带来了阻碍。因此,如何加工一种电容式触摸屏,能提高了电容触摸屏抗折强度、表面硬度成为技术人员努力的方向。
发明内容
本发明目的是提供一种电容式触摸屏的加工方法,该加工方法有效提高了电容触摸屏抗折强度、表面硬度;提高了离子活性的同时,又有利于离子的交换,缩短了生产周期。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种电容式触摸屏的加工方法,所述电容式触摸屏从上往下依次设置有第一玻璃基板、上电极层、下电极层和第二玻璃基板;所述第一、第二玻璃基板经过以下步骤处理:
步骤一、将所述玻璃基板放置于酸性溶液中进行预处理,预处理时间为1~10min;
所述玻璃基板原料配方主要由下列质量百分含量的组分组成:
二氧化硅(SiO2) 71.21%;
氧化钾(K2O) 1.22%;
氧化纳(Na2O) 12.77%;
氧化钙(CaO) 6.48%;
步骤二、将经步骤一的所述玻璃基板浸入离子溶液中,此离子溶液以每分钟3~15℃/min升温速率从室温升至390~420℃,并在390~420℃的条件下保持4~6小时后自然降温;所述离子溶液通有气体从而在此离子溶液中形成气泡,所述离子溶液由去离子水与硝酸钾、碳酸钾和硼酸钾组成的混合物组成,此混合物各组分的质量百分含量为:
硝酸钾(SiO2) 85%~95%;
碳酸钾(B2O3) 4%~14%;
硼酸钾(K2B4O7) 0.5%~1.5%;
步骤三、将经步骤二的所述玻璃基板浸泡于50~60℃的去离子水中,此去离子水中通有空气。
作为优选,所述玻璃基板原料配方还包括以下组分:
三氧化二铁(Fe2O3) 0.05%;
氧化镁(MgO) 0.5%;
二氧化铝(Al2O3) 3.2%。
作为优选,所述酸性溶液为氢氟酸或者硫酸,其质量浓度为3~5%。
作为优选,所述酸性溶液为氢氟酸与硫酸的混合液,混合比例为1∶3~4。
本发明的技术方案与现有技术相比具有以下优点和效果:
本发明电容式触摸屏的加工方法,经测试有效提高了电容触摸屏抗折强度、表面硬度;其次,本发明加工方法采用特定比例的硝酸钾与碳酸钾混合,既保证了离子溶液中钾离子活性未降低,又进一步提高了电容触摸屏的玻璃基板应力;再次,本发明加工方法在离子溶液中掺有少量的硼酸钾,能在玻璃基板表面形成玻璃相,从而有效地克服了硝酸钾在玻璃基板表面的流失的缺陷,有利于离子交换以提高电容触摸屏抗折强度、表面硬度;再次,本发明加工方法采用酸预得到的新鲜表面,通过腐蚀除掉含有裂纹或其他缺陷的表面层,消除造成降低强度的因素,恢复或提高玻璃的强度,从而有利于后续加工工艺;再次,本发明加工方法在溶液中均通有气体,有利于离子浓度的分布均匀,在清洗步骤中通气体有利于去除残留的离子。
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