[发明专利]一种防止雾化的光罩板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201110276460.3 申请日: 2011-09-16
公开(公告)号: CN102323715A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 王省莲;刘波波;李建婷;刘大为;李伟霖 申请(专利权)人: 西安中为光电科技有限公司
主分类号: G03F1/48 分类号: G03F1/48;C23C14/08
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 弋才富
地址: 710065 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 防止 雾化 光罩板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种防止雾化的光罩板,从内到外依次包括防光罩层、粘胶层、感光乳胶层以及保护膜,其特征在于:所述光罩板还包括在所述保护膜的外面镀一层抗腐蚀的透明纳米等离子保护层。

2.根据权利要求1所述的光罩板,其特征在于:所述抗腐蚀的透明纳米等离子保护层的材料为稀有金属化合物。

3.根据权利要求2所述的光罩板,其特征在于:所述稀有金属化合物为In2O3:Sn、In2O3:Mo、SnO2:Sb、SnO2:F、ZnO:Al或者CdO:In。

4.根据权利要求1所述的光罩板,其特征在于:抗腐蚀的透明纳米等离子保护层的厚度为50-100nm。

5.一种权利要求1所述防止雾化的光罩板的制造方法,包括如下步骤:

步骤1:清洗贴好保护膜的光罩板:首先将贴好保护膜的光罩板用硫酸∶双氧水∶水的体积比为5∶1∶1的混合溶液,在50-80℃下浸泡5-10分钟,然后用去离子水冲洗甩干,随后用HCl∶H2O的体积比为1∶5的酸溶液浸泡5-10分钟,再用去离子水冲洗甩干;

步骤2:镀抗腐蚀的透明纳米等离子保护层:将清洗干净的贴好保护膜的光罩板通过物理气相沉积法沉积一层抗腐蚀的透明纳米等离子保护层;

步骤3:退火处理:将镀有抗腐蚀的透明纳米等离子保护层的光罩板在300-500℃退火处理25-35min。

6.根据权利要求8所述的制造方法,其特征在于:步骤2所述的物理气相沉积法的沉积条件为:镀率:10-15nm/min;功率:15-28KW;氧气流量:0.5-0.7sccm;温度250-280℃;电子束电流50-70mA。

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