[发明专利]一种三级掺杂水平的选择性发射极及其制备方法

权利要求书

1.将掺杂油墨按照特定图案印刷到硅片上，然后对硅片进行一系列热处理，其特征在于：通过上述操作，可在硅片上获得具有重度、中度和轻度三级掺杂水平的选择性发射极。

2.根据权利1所述的特定印刷图案，其主要特征在于：图案中的主线是由图形阵列构成，其形状可以是矩形、圆形、多边形、线条等，这些图形相对均匀地分布在主线区域内，其面积之和可占主线区域总面积的10％～60％。

3.根据权利1所述的热处理，其主要特征在于：包括中低温热处理和高温扩散两个过程。

4.根据权利3所述的中低温热处理过程，其主要特征在于：加热温度为：100℃～400℃。

5.根据权利3所述的高温扩散过程，其主要特征在于：整个扩散过程硅片始终处于扩散炉内，炉温：800℃～950℃，处理时间：20分钟～120分钟。

6.根据权利要求1所述的三级掺杂水平的选择性发射极，其主要特征在于：热处理完成后，硅片上覆盖油墨的副线区域和覆盖油墨的主线图形阵列区域获得重度掺杂，其方块电阻值为：20Ω/□～50Ω/□；无油墨的非电极区域获得轻度掺杂，其方块电阻值为：60Ω/□～180Ω/□；无油墨的主线空白区域获得中度掺杂，其方块电阻值介于上述重度掺杂区域和轻度掺杂区域之间。