[发明专利]用于卫生设备配件的射流出口元件

说明书

本申请是申请日为2005年11月15日、申请号为200580038982.2、发明名称为“用于卫生设备配件的射流出口元件”的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种用于卫生设备配件的所谓的喷射式淋浴头。

背景技术

喷射式淋浴头用于形成优选具有平滑流的闭合的自由下落的宽的射出水流。

这种已公知的喷射式淋浴头具有金属壳体，所述金属壳体具有在其侧部上的用作水入口的圆形圆柱形喷嘴的特征。进入壳体内的逐渐变得更宽且更平的过渡部与连接喷嘴直接邻接。壳体相对于连接喷嘴成一定角度。在连接喷嘴与成一定角度的壳体之间的过渡部中，存在使进入的水产生转向的偏转器(DE 26 19 415)。

还已公知存在一种喷射式淋浴头(DE 25 54 723)，对于所述喷射式淋浴头而言，壳体的一个边界壁部也从连接喷嘴开始且逐渐变得更宽且更平并且具有纽结部的特征。

在所有已公知的喷射式淋浴头中，通常情况下，从连接喷嘴开始的壳体内部逐渐转变成带狭槽的出口孔。此外，已公知的喷射式淋浴头是独立配件，所述独立配件被直接连接至壳体安装装置。

存在应该通过商业卫生设备配件产生喷射流的应用情况。

本发明的任务是提供一种甚至在不适宜的空间条件下也可能产生清洁的喷射流的可能性。

发明内容

为了完成该任务，本发明提出了一种具有权利要求1中提到的特征的射流出口元件。该射流出口元件尤其旨在作为旨在用于产生喷射流的卫生设备配件的一部分。

所述射流出口元件包含两个隔室，因此存在入口隔室，水入口被引入所述入口隔室中。所述射流从所述射流出口隔室中被泄放出来，由此此处所述水出口还被形成狭槽。在所述两个隔室之间存在整流器，所述整流器对进入所述入口隔室的所述水流进行调整，并使其均匀化。通过这种方式，可能在独立于是否适于形成喷射流的情况下设计所述入口隔室中的所述入口。这为设计者在构造其卫生设备配件方面提供了更大的自由度，原因在于他可任意布置所述水入口。

根据本发明，在本发明的进一步发展的方面中，可使得所述出口元件的所述入口隔室具有沿流向的平的矩形剖面的特征。

在本发明的更进一步发展的方面中，可使得所述射流出口隔室具有沿流向的平的矩形剖面的特征。通过这种方式，可能降整个射流出口元件形成可易于安装在卫生设备配件中的平盘状部件。

两个隔室可水平地位于相同的平面中。

在本发明的进一步发展的方面中，可使得所述射流出口隔室具有逐渐减少的高度的特征。

根据本发明的另一个特征，所述射流出口元件可具有位于所述入口隔室与所述出口隔室之间的瓶颈部的特征。可通过减少所述两个隔室中的至少一个隔室的高度和/或减少至少一个隔室的宽度而形成所述瓶颈部。

如果所述整流器被设置在位于所述入口隔室与所述出口隔室之间的所述瓶颈部的区域中，则是特别适宜的。

为了均匀地且在视觉方面进一步改进射流的形成过程，用于流水的稳定化区域可被布置在根据本发明的整流器的下游。在该稳定化区域中，初始受到调整的水流可再次受到稳定化以便获得视觉上吸引人的流。

特别是，可使得所述稳定化区域具有阻滞水流的多个阻滞元件的特征。

所述阻滞元件可在所述射流出口隔室的底部与顶部之间进行延伸，原因在于所述隔室的总体设计是平的。例如，所述阻滞元件可包括具有圆形剖面的销。

所述阻滞元件可被布置成至少一排，由此所述排横向于所述流向，因此平行于所述狭槽型出口孔进行延伸。特别是，可使得所述阻滞元件被布置成至少两排，所述至少两排另一方面被再次布置在间隙上。水围绕所述阻滞元件进行流动且再次进入阻滞元件内随后再次流入水再次进行流动所围绕的阻滞元件内。

为了对于甚至极宽的水出口而言也确保实现水流的均匀分布，在本发明的进一步发展的方面中，可在所述整流器和/或所述阻滞元件的下游设置流形成器。这例如可包括沿流向设置的彼此邻近的多个伸展的射流形成元件，所述多个伸展的射流形成元件将所述水流分成单个区域，而不会使这些区域彼此隔开。

在本发明的又一发展方面中，使所述水出口的边缘在与所述流向倾斜对齐的平面中从所述射流出口隔室延伸出来可以是有利的。特别是，使所述射流出口隔室的一个边界壁部，例如顶部，在所述水出口的区域中相对于所述流向成一定角度地进行延伸可以是有利的。可例如通过在多个步骤中进行圆化或形成一定角度的方式实现使该边界壁部位于一定角度下的过程。