[发明专利]秸秆复合屋面瓦及其制备方法无效
申请号: | 201110278574.1 | 申请日: | 2011-09-19 |
公开(公告)号: | CN102444239A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 赵之昆;王少健;赵海天 | 申请(专利权)人: | 赵之昆;王少健;赵海天 |
主分类号: | E04D3/35 | 分类号: | E04D3/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518060 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 秸秆 复合 屋面 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及建材领域,具体地,是关于一种将建筑屋顶瓦与屋面板合二为一,具有装饰功能、防水功能、保温功能且构造简单、施工方便的秸秆复合屋面瓦及其制备方法。
背景技术
传统瓦是采用粘土压制成坯块再经高温烧结而成,就是平常所说“秦砖汉瓦”一词中的“汉瓦”。这种传统制砖方法以不可再生的土地为原料,导致耕地减少;生产过程中,会排放出大量有害的烟尘,造成环境污染。用粘土烧结的传统瓦重量重,导致房屋结构承载大,不利抗震。同时,在建筑拆除后会成为建筑废料,不能降解。此外,目前建筑物的屋面结构一般是由瓦、挂瓦条、顺水条、防水层、水泥砂浆层和屋面板构成。施工工艺流程一般是在屋面板铺好后,先在屋面板上抹一层水泥砂浆,然后铺防水卷材,接着安装顺水条和挂瓦条,然后铺瓦。这种施工技术的缺点是:瓦和屋面板分别制造,成本高;现场施工中所用辅材多,施工工艺复杂,施工周期长。随着科技的进步,建筑屋的屋面瓦的结构、材料和施工技术需要作进一步的改进和革新。
发明内容
本发明提出的是一种秸秆复合屋面瓦及其制备方法。其目的是采用秸秆为主要制作材料,制作成一种将建筑屋顶瓦与屋面板合二为一,具有装饰功能、防水功能、保温功能且构造简单、施工方便的新型屋面瓦。
本发明提出的秸秆复合屋面瓦及其制备方法是在秸秆复合屋面瓦模具中依次分层放置着色层、稳定层、内防裂加固层、防火层、隔蒸汽层、隔热层、防水层、外防裂加固层、稳定层和着色层,混合一定量的胶粘剂固化压制成型。
根据本发明,所述复合屋面瓦为含有秸秆的复合屋面瓦。
根据本发明,所述复合屋面瓦可加设太阳能光伏板系统,成为光伏一体化屋面瓦。
根据本发明,所述复合屋面瓦的着色层可以采用不同的材料配方,制成彩釉面复合屋面瓦、彩色琉璃面复合屋面瓦和普通彩色面复合屋面瓦等。
根据本发明,所述复合屋面瓦形状可以根据不同模具而改变。
根据本发明,所述复合屋面瓦的上、下边框和左、右边框为特殊设计的接口,保证复合屋面瓦间结合紧密、保温且不漏水。
本发明的积极效果在于,与传统的粘土瓦相比,优点是:
1、保护耕地。不添加粘土。
2、保护环境。制备过程中不排放有害气体和粉尘。
3、农民增收。利用了秸秆等农业废弃物资源,变废为宝。
4、抗震能力强。单位体积重量轻,整体性强。
5、低碳制作。不需烧制。
6、易于施工。砌筑简单。
7、循环利用。无废弃,材料的可再利用性。
8、保温、防火、防水、防渗性能好等。
本发明具有明显的技术优势和经济优势,而且施工方便。特别适合北方和抗震要求较高的地区的住宅,可在建筑领域中广泛应用,将产生巨大的经济效益和社会效益。
附图说明
以下结合附图对本发明进一步说明:
图1是秸秆复合屋面瓦的分层示意图。
图2是秸秆复合屋面瓦的单体成型示意图。
图3是秸秆复合屋面瓦的单体拼接示意图。
图4是图3的A-A剖面示意图。
图5是图3的B-B剖面示意图。
图中编号:1、着色层,2、稳定层,3、内防裂加固层,4、防火层,5、隔蒸汽层,6、隔热层,7、防水层,8、外防裂加固层。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步说明,应该理解的是,实施例仅用于例证的目的,绝不限制本发明的保护范围。
参照附图,秸秆复合屋面瓦是按以下步骤制作的:
1、将去除杂草后的秸秆烘干至含水率≤12%。
2、将烘干后的秸秆切碎至长度为2-5cm。
3、按一定比例将切碎后的秸秆与防腐剂、胶粘剂(如聚氨酯生态胶等)混合放入模具压制成块。
4、在秸秆复合屋面瓦模具中依次分层放置着色层、稳定层(并带有一定的防水功能)、内防裂加固层(如金属网等)、防火层(如粉煤灰矿渣等)、隔蒸汽层(如聚乙烯薄膜等)、隔热层(经过防腐处理及初步压制的秸秆块)、防水层(如SBS防水卷材等)、外防裂加固层(如金属网等)、稳定层(并带有一定的防水功能)和着色层,混合一定量的胶粘剂(如聚氨酯生态胶)固化压制成型。
5、为完成压制的秸秆复合屋面瓦进行后期处理,包括裁边。裁边是为了获得标准的秸秆复合屋面瓦规格。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,对本发明而言仅仅是说明性的,而非限制性的。本专业技术人员理解,在本发明权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变、修改,甚至等效,但都将在本发明的保护范围内。
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