[发明专利]一种OLED用铬蚀刻液及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201110279550.8 | 申请日： | 2011-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN102505118A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 冯卫文 | 申请（专利权）人： | 绵阳艾萨斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅 |
| 地址： | 621000 四川省绵*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 oled 蚀刻 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种蚀刻液，包括硝酸铈铵、硝酸水溶液、阳离子表面活性剂和水。
2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于：所述蚀刻液由所述硝酸铈铵、硝酸水溶液、阳离子表面活性剂和水组成。
3.根据权利要求1或2所述的蚀刻液，其特征在于：所述阳离子表面活性剂为十二烷基二甲基苄基氯化铵。
4.根据权利要求1-3任一所述的蚀刻液，其特征在于：所述硝酸水溶液的质量百分浓度为65％。
5.根据权利要求1-4任一所述的蚀刻液，其特征在于：所述硝酸铈铵占所述蚀刻液总重的百分比为5-30％，优选为10-20％；
所述硝酸水溶液占所述蚀刻液总重的百分比为0.5-10％，优选为1-5％；
所述阳离子表面活性剂占所述蚀刻液总重的百分比0.01-5％，优选为0.1-1％；
余量为所述水。
6.根据权利要求1-5任一所述的蚀刻液，其特征在于：所述水为去离子水。
7.一种制备权利要求1-6任一所述蚀刻液的方法，包括如下步骤：将权利要求1-6任一所述组分混匀，得到所述蚀刻液。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：所述制备权利要求1-6任一所述蚀刻液的方法，还包括如下步骤：在所述混匀步骤之后，将所述蚀刻液过滤。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：所述过滤步骤中，滤网孔径不大于0.2μm，优选0.2μm。
10.权利要求1-6任一所述蚀刻液在蚀刻铬金属膜中的应用。
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