[发明专利]独特传动机构传片技术进行硅薄膜镀膜无效
申请号: | 201110279821.X | 申请日: | 2011-09-20 |
公开(公告)号: | CN103014678A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 戴嘉男;刘幼海;刘吉人 | 申请(专利权)人: | 吉富新能源科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/458;C23C16/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201707 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 独特 传动 机构 技术 进行 薄膜 镀膜 | ||
所属技术领域
本方法是将薄膜太阳能中的技术核心PECVD的传片技术,当TCO玻璃放置于台车上时,会开始利用传动机构进行传片,让玻璃可以从台车传入到PECVD腔体内,而传动机构需要经过特殊的设计,其要能够进入到台车内部,也要能够作升降及前后移动的特性,如此才可以将TCO玻璃顺利的传到入口端,并可进入到腔体内部抽真空及制程,完成后也需透过这样的传动机构,将镀膜后的玻璃顺利的传入到台车内,这样的设计除了不需要人工搬运玻璃造成破片之外,也可以去除TCO玻璃本身膜面可能受到人为因素或者是环境因素造成膜面脏污而造成镀膜不完整的情形,如此设计可以提高太阳能硅薄膜的稳定性以及镀膜的完整性。
背景技术
目前,业界对于薄膜太阳能电池中已有许多的研究,在制作核心PECVD时也有特殊的设计方式,主要是卧式以及直立式为主,当中在业界与学术界常使用的机台模组,是以卧式的设计居多,而在卧式的设计当中,较常遇到的问题则是玻璃传片问题,目前业界中卧式都是使用Robot进行传片,但是Robot本身成本高,且在传片时常会有造成玻璃破片或者Robot伤及人员的问题,使得在镀膜时危险性提高,另一种方式则是以人力进行传片,但是人力传片常会造成玻璃膜面受到人员触摸而有脏污的情形,会造成镀膜时其膜面会有明显手印,且外观也不美观,因此本发明主要设计一组传动机构,让玻璃从台车到进入PECVD腔体的过程中,不需要人员触摸,也不需要像Robot传动有危险性发生,其主要是设计传动机构为一直立式架构,其架构内有一平台,其平台可以透过线性马达及传动轴作升降及前后的动作,而平台上则设有多组滚轮,其滚轮也有升降功能,其动作为将平台利用升降及前后移动进入到台车内部,随后滚轮上升接触玻璃,随后滚轮将玻璃完整移出到平台上,随后滚轮下降到平台上,再藉由平台作升降及前后移动方式将玻璃传入到抽真空腔体,即完成传片动作,并随后可进行镀膜制程等动作,此方式除了可以避免玻璃在Robot传片的危险性外,也可以避免膜面受到人员触摸脏污的可能,可以提供整体镀膜的稳定性及完整性。
发明内容
本发明主要目的是独特传动机构传片技术进行硅薄膜镀膜。其系统主要包含入口端、入口端传动机构、抽真空腔、P.I.N型半导体制程腔、出口端。在每个腔体内都设有传动轮轴及真空Pump,且制程腔内则有加热装置、Showerhead气流孔与RF电极,以进行制程。而本发明传动机构传片,则是设置在入口端及出口端处,其主要本体为一平台,在传动机构传片上设有线性马达及履带片,可以让平台可以作上升及下降工作,另外在平台上也设有滚轮轴承,此滚轮轴承可以将玻璃从台车取片出来放置于平台上。因此其发明是将平台利用线性马达及履带片作上升及下降动作,此发明可以让平台可以照顺序对台车上的玻璃进行取片,而不会造成平台撞到玻璃的可能,接着平台上的滚轮会将平台平移到台车上,然后使平台作升降动作,将玻璃顶起,并放置在平台上,接着平台会回流至传动机构上,平台上升至适当位置可以用滚轮方式将玻璃传入到抽真空腔内,随后抽真空及进行P.I.N型半导体制程,当完成制程后,其玻璃会再利用滚轮传到出口端并放置于平台上,接着平台同样利用履带升降,降到可以将玻璃移到台车位置,随后滚轮轴承将平台伸出至台车内部,并将玻璃放置于台车上,随后平台再回到传动机构上,即完成此动作。如此可以提高膜层镀膜完整度,且不易让玻璃受到脏污及损伤,可以提高太阳能硅薄膜效率。
附图说明
下面是结合附图和实施例对本发明进一步说明:图1是本发明之动作流程示意图,图2是本发明之传动机构传片及入口端示意图,图3是本发明之抽真空腔体示意图,图4是本发明之P.I.N型半导体薄膜制程腔示意图,图5是本发明之降温破真空腔示意图,图6是本发明之传动机构传片及出口端示意图,主要元件符号说明:1 …台车2 …玻璃3…入口端及出口端4 …线性马达5 …履带片6…传动轮轴7…滚轮8…Slit valve9…Sensor10…抽气Pump11…Showerhead12…气流孔13…RF power supply14…电浆。
具体实施方式
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的