[发明专利]具电动式调整定位功能的模具机台

说明书

技术领域

本发明涉及一种具电动式调整定位功能的模具机台；特别涉及一种模件以电动微调方式进行移动调整或旋转调整的模具机台。

背景技术

习用微调机构，例如：中国台湾专利公告第I260726号的“可调整晶圆负载埠位置的微调机构”发明专利，其揭示一种用来调整负载埠位置的微调机构。此微调机构具有彼此垂直布置的第一螺丝柱与第二螺丝柱，且可装设于负载埠面板角落位置的长条状镂空开口中。借着使第二螺丝柱贯穿镂空开口且抵住后方的机台，可经由罩覆于第二螺丝柱表面的圆柱状套筒，来控制负载埠面板远离或靠近后方的机台。另外，第一螺丝柱则是由负载埠面板侧边贯入而凸出于镂空开口中，且与圆柱状套筒间具有固定连结的关系，是以在对第一螺丝柱进行旋转时，可利用第二螺丝柱固定支点的效果，而使负载埠面板上升或下降。

另一习用微调机构，例如：中国台湾专利公告第I330567号的“双驱同动定位平台的旋转微调机构”发明专利，其揭示一种双驱同动定位平台(如：龙门架构)的旋转微调机构，设置在该双驱同动定位平台的横梁与支柱之间，该旋转微调机构具一定位柱枢接该横梁及该支柱，使该横梁与该支柱能相对枢转以补偿该横梁与支柱的位移误差，该旋转微调机构并具弹性件，让该弹性件的弹性复原力能抵抗该横梁与该支柱间的枢转，以提升该机构整体的刚性。

虽然前述第I260726号及第I330567号专利已揭示相关微调机构技术，但前述微调机构技术并未提供电动微调机构。事实上，就某些微调机构而言，其必然需要以电动或其它方式进行微调。因此，习用微调机构技术必然存在以电动方式进行微调的需求。

另一习用电动调整装置，例如：中国台湾专利公告第M322721号的″电动式滑动机构的调整装置″发明专利，其揭示一种电动式滑动机构的调整装置用于调整承载物的定位。该调整装置包括一电动控制单元、一装置本体、一螺杆及一滑移座体，装置本体内设有至少一个滑槽，装置本体的一端面具有一轴孔，螺杆设置于该装置本体内，螺杆的一端枢设于装置本体的轴孔，且另一端连接于电动控制单元上，滑移座体设置于装置本体内，滑移座体具有一螺孔，螺杆螺合于滑移座体的螺孔，其中通过电动控制单元驱动螺杆转动，以带动滑移座体配合装置本体的滑槽作往复运动；藉此，具有省力的效果，并以适当的作用力作动，省略多次微调动作，避免伤及承载物和装置本体，减少机件间不必要的磨耗。

另一习用电动调整装置，例如：中国台湾专利公告第405522号的“真空成型机的上模电动调整装置”新型专利，其揭示一种上模电动调整装置。于上模架两个导持螺杆间置设一基板，于基板相对于两个导持螺杆的位置各设有一组链轮，并使链轮与导持螺杆呈螺合关系，于链轮顶面另以环座组设缓冲垫圈，而于基板一侧另衔设一座板以组设一组马达，利用马达心轴衔设的链轮配合基板相对另侧预设的辅助链轮，进而得张设一链条以形成马达传动两个螺合于导持螺杆的链轮的同步连动关系，调整两个链轮与导持螺杆相对准位关系，以限制上模的下降行程。

虽然前述第M322721号及第405522号专利已揭示相关电动调整装置技术，但前述习用电动调整装置技术仍需要进一步改良，以提升其电动调整功能。如此，习用电动调整装置技术经适当改良后，可应用于需要以电动方式进行微调的各种机构。

另一习用射出装置的位置调整机构，例如：中国台湾专利公告第I279306号的“射出装置复数射料嘴间的相对位置调整机构”发明专利，其揭示一种射料嘴间的相对位置调整机构。该射料嘴间的相对位置调整机构者包含有一导部，用以形成一沿预定方向水平延伸的轨道；一具有射料嘴的第一射部，滑设于该轨道上，而得受该轨道的导引方向于一X轴方向水平位移；一具有射料嘴的第二射部，滑设于该轨道上，而与该第一射部相距一射座间距，并得受该轨道的导引方向于该X轴方向水平位移，且可沿垂直于该X轴的一Y轴方向上于预定高度范围内升降位移。

虽然前述第I279306号专利已揭示相关射料嘴相对位置调整技术，但前述习用相对位置调整技术并未提供如何精确微调定位其射料嘴的位置。因此，前述习用相对位置调整技术仍需要进一步改良，且必然存在进一步提升水平精确微调整定位的需求。