[发明专利]InAlN材料的酸碱交替选择湿法腐蚀方法有效
申请号: | 201110283054.X | 申请日: | 2011-09-22 |
公开(公告)号: | CN102299066A | 公开(公告)日: | 2011-12-28 |
发明(设计)人: | 邢东;冯志红;王晶;刘波;房玉龙;敦少博 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | H01L21/306 | 分类号: | H01L21/306 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 米文智 |
地址: | 050051 河北省石家*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | inaln 材料 酸碱 交替 选择 湿法 腐蚀 方法 | ||
1.InAlN材料的酸碱交替选择湿法腐蚀方法,其特征在于包括以下步骤:
(1)碱性腐蚀液腐蚀InxAlN:将待腐蚀InxAlN晶圆片用碱性腐蚀液腐蚀,碱性腐蚀液为能腐蚀InxAlN材料的碱性溶液,0≤x<1;
(2)酸性腐蚀液清洗颗粒状残余物:用酸性腐蚀液腐蚀InxAlN晶圆片,酸性腐蚀液为HCl、HF、H3PO4或HNO3的水溶液,0≤x<1;
(3)按先步骤(1)后步骤(2)的顺序或先步骤(2)后步骤(1)的顺序循环至达到腐蚀要求,循环结束于步骤(1)或步骤(2)。
2.如权利要求1所述的InAlN材料的酸碱交替选择湿法腐蚀方法,其特征在于:碱性腐蚀液腐蚀InxAlN的温度T为30℃<T≤100℃,0≤x<1。
3.如权利要求1所述的InAlN材料的酸碱交替选择湿法腐蚀方法,其特征在于:酸性腐蚀液清洗颗粒状残余物的温度T为0℃<T≤100℃。
4.如权利要求1所述的InAlN材料的酸碱交替选择湿法腐蚀方法,其特征在于:步骤(1)中将待腐蚀InxAlN晶圆片用碱性腐蚀液腐蚀后用去离子水冲洗InxAlN晶圆片,再用氮气吹干,0≤x<1。
5.如权利要求1所述的InAlN材料的酸碱交替选择湿法腐蚀方法,其特征在于:步骤(2)中用酸性腐蚀液腐蚀InxAlN晶圆片后用去离子水冲洗InxAlN晶圆片,再用氮气吹干,0≤x<1。
6.如权利要求1、2、3、4或5所述的InAlN材料的酸碱交替选择湿法腐蚀方法,其特征在于:碱性腐蚀液为KOH、NaOH或TMAH的水溶液。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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