[发明专利]用于真空镀膜设备的多功能基片架无效
| 申请号： | 201110283620.7 | 申请日： | 2011-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN102330065A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 王济洲;熊玉卿;王多书;陈焘;董茂进;王超;李晨;张玲 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C16/458 |
| 代理公司： | 甘肃省知识产权事务中心 62100 | 代理人： | 李琪 |
| 地址： | 730000*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 真空镀膜 设备 多功能 基片架 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于真空镀膜设备的多功能基片架，其特征在于，该基片架包括安装盘（1）和至少两根安装条（3），安装盘（1）上平行设置有两条长条形的滑槽（2），安装条（3）上加工有两个安装孔（8），两个安装孔（8）的中心距与两条滑槽（2）的中心距相等。
2.根据权利要求1所述的多功能基片架，其特征在于，所述的安装条（3）上、与安装孔（8）轴线相平行的两个侧面上分别设置有一个凸出的台阶（7）。
3.根据权利要求1所述的多功能基片架，其特征在于，所述的安装条（3）上、与安装孔（8）轴线相平行的两个侧面中的一个侧面上设置有一个凸出的台阶（7）。
4.根据权利要求2或3所述的多功能基片架，其特征在于，所述台阶（7）的厚度为0.1mm～0.2mm。
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