[发明专利]利用缓冲层技术提高透明导电层穿透率之技术无效
申请号: | 201110283649.5 | 申请日: | 2011-09-22 |
公开(公告)号: | CN103022230A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 简唯伦;刘幼海;刘吉人 | 申请(专利权)人: | 吉富新能源科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201707 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 缓冲 技术 提高 透明 导电 穿透 | ||
技术领域
本发明是一种可大大提升光入射透明导电体之机率,降低光的反射率,提高太阳能效率,其主要目的:采用缓冲层的技术,改善光在进入透明导电层时反射的现象,提高光进入玻璃的机率,以增加太阳能电池发电效率。
背景技术
目前,世界太阳能产线所使用的透光层玻璃,若需要较高穿透率玻璃,成本相当高,以至于各家厂商皆舍其雾度(Haze),改由电池本身效率做改善,但其改善有所限制,若能有效提升光穿透率,便能大大提升整体效率。
发明内容
本发明主要是利用缓冲层技术提高透明导电层穿透率之技术,以加入缓冲层于玻璃与透明导电层之间,调整其光折射率方式来增加光穿透率,提升太阳能电池发电效率。在镀制透明导电薄膜层之前,先在玻璃基板上镀制一层折射率在1.5<n<2.0之间的透明薄膜材料当作缓冲层,减少玻璃基板与透明导电层之间的折射率差异,增加光穿透的机率,以提升太阳能电池有效光源。
具体实施方法:吾将本发明搭配附图,详细说明如下:图1为本发明利用缓冲层技术提高透明导电层穿透率之技术示意图,由图中可得知,在一玻璃基板(1)上镀制一层折射率在1.5<n<2.0之间的透明薄膜材料当作缓冲层(2),之后在此缓冲层上再以镀制一层透明导电薄膜层(3)即完成。
图2为本发明各层折射率示意图与反射率穿透率公式表,玻璃基板(1)其折射率大致约为n~1.5,我们选用1.5<n<2.0的透明薄膜材料当作缓冲层(2);缓冲层上再以镀制一层透明导电薄膜层(3)折射率皆约为n~2.0。由公式(4)得知,若使用缓冲层夹于玻璃与透明导电层间,减小折射率差异,可降低光的反射率,所以本发明选用1.5<n<2.0的透明薄膜当缓冲层,能有效增加入射光之利用率,提升太阳能产业进争能力。
以上说明,对本发明而言只是说明性的,非限制性的,本领域普通技术人员理解,在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下,可作出许多修正、变化或等效,但都将落入本发明的保护范围之内。
附图说明:下面为结合附图对本发明进一步说明。
图1为本发明利用缓冲层技术提高透明导电层穿透率之技术各薄膜层镀制之示意图。
图2为本发明各层折射率示意图与反射率穿透率公式表。
图标主要符号说明:1 …玻璃2 …缓冲层3 …透明导电性层4 …反射率穿透率公式表。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的