[发明专利]光学系统、配备有该光学系统的光学设备和用于制造光学系统的方法有效

专利信息
申请号: 201110285189.X 申请日: 2011-09-19
公开(公告)号: CN102411189B 公开(公告)日: 2016-08-31
发明(设计)人: 原田壮基;田中一政 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B15/177 分类号: G02B15/177;G03B19/12;G02B27/64
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 孙志湧;安翔
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学系统 配备 光学 设备 用于 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学系统,按照从物侧的次序包括:

第一透镜组;

具有负折射光焦度的第二透镜组;和

具有正折射光焦度的第三透镜组,

所述第二透镜组被以沿着包括与光轴垂直的分量的方向可移动的方式置放,并且

以下条件表达式得以满足:

0.30<f/f23<0.95

这里f表示在聚焦于无穷远物上时所述光学系统的焦距,并且f23表示在聚焦于无穷远物上时所述第二透镜组和所述第三透镜组的组合焦距。

2.根据权利要求1的光学系统,其中以下条件表达式得以满足:

-0.4<f/f1<0.4

这里f1表示所述第一透镜组的焦距。

3.根据权利要求1的光学系统,其中以下条件表达式得以满足:

-0.35<f/f2<-0.07

这里f2表示所述第二透镜组的焦距。

4.根据权利要求1的光学系统,其中以下条件表达式得以满足:

1.2<H2in/H1in<3.0

这里H1in表示在所述第一透镜组的最物侧透镜表面上入射的边界射线的高度,并且H2in表示在所述第二透镜组的最物侧透镜表面上入射的边界射线的高度。

5.根据权利要求1的光学系统,其中孔径光阑被置放到所述第二透镜组的像侧。

6.根据权利要求5的光学系统,其中所述孔径光阑被置放在所述第三透镜组中。

7.根据权利要求1的光学系统,其中在从无穷远物到近物执行聚焦时,所述第三透镜组被向物侧移动。

8.根据权利要求1的光学系统,其中所述第一透镜组在光轴方向上被固定,在所述第一透镜组和所述第二透镜组的至少一个光学表面上施加了抗反射涂层,并且所述抗反射涂层包括通过湿法过程形成的至少一个层。

9.根据权利要求8的光学系统,其中所述抗反射涂层是多层膜,并且通过湿法过程形成的层是在构成所述多层膜的层中的最外层。

10.根据权利要求8的光学系统,其中当通过湿法过程形成的层在d线处的折射率由nd表示时,折射率nd是1.30或者更小。

11.根据权利要求8的光学系统,其中在其上施加所述抗反射涂层的光学表面是从孔径光阑侧看到的凹面。

12.根据权利要求11的光学系统,其中在其上施加所述抗反射涂层的、从所述孔径光阑侧看到的所述凹面是像侧透镜表面。

13.根据权利要求11的光学系统,其中在其上施加所述抗反射涂层的、从所述孔径光阑侧看到的所述凹面是物侧透镜表面。

14.根据权利要求8的光学系统,其中在其上施加所述抗反射涂层的光学表面是从物侧看到的凹面。

15.根据权利要求14的光学系统,其中从物侧看到的所述凹面是像侧透镜表面。

16.根据权利要求14的光学系统,其中从物侧看到的所述凹面是物侧透镜表面。

17.一种光学设备,所述光学设备配备有根据权利要求1所述的光学系统。

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