[发明专利]一种异质结黑硅太阳能电池的制备方法无效

专利信息
申请号: 201110285826.3 申请日: 2011-09-23
公开(公告)号: CN102290496A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 夏洋;饶志鹏;万军;李超波;陈波;黄成强;刘键;石莎莉;李勇滔 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 异质结黑硅 太阳能电池 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

对硅片表面进行处理,形成黑硅;

将所述黑硅放置于原子层沉积设备反应腔中;

在所述黑硅表面生长一层镍金属;

向所述原子层沉积设备反应腔中通入碳氢物质,通过等离子体放电,形成碳原子,所述碳原子自发积累在所述镍金属表面形成碳纳米管结构;

在所述碳纳米管表面涂上反射增透膜,形成异质结黑硅太阳能电池。

2.如权利要求1所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述硅片为多晶硅。

3.如权利要求2所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述对硅片表面进行处理,形成黑硅的步骤之前还包括:所述硅片的表面经过标准液和氢氟酸清洗,在硅片表面形成硅氢键。

4.如权利要求3所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述硅片的表面经过标准液和氢氟酸清洗,在硅片表面形成硅氢键的步骤之前还包括:对所述硅片进行掺杂,形成P型多晶硅或者N型多晶硅,掺杂浓度为1012-1016

5.如权利要求1所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述对硅片表面进行处理具体为:用飞秒激光照射所述硅片表面使其产生针状纳米结构。

6.如权利要求1所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述在所述硅衬底表面生长一层镍金属具体包括:

A.向所述原子层沉积设备反应腔中通入镍前驱体,所述镍前驱体分解出的镍原子吸附在所述硅衬底表面;

B.向所述原子层沉积设备反应腔中通入含氢物质,通过等离子体放电,使得含氢物质中的氢原子与所述镍前驱体分解出来的配位基团反应,同时和所述硅衬底表面的镍原子形成镍氢键;

经过步骤A和步骤B多次交替反应后,所述硅衬底表面生长一层镍金属。

7.如权利要求6所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述镍前驱体为含镍络合物Ni[OC(CH3)(C2H5)CH2N(CH3)2]2

8.如权利要求6所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述含氢物质为氨气,所述含氢物质通入所述原子层沉积设备反应腔的流速为50sccm-400sccm,所述原子层沉积设备反应腔的等离子体放电功率为100w-1000w。

9.如权利要求1所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述碳氢物质为乙炔,所述碳氢物质通入所述原子层沉积设备反应腔的流速为10sccm-100sccm,所述原子层沉积设备反应腔的等离子体放电功率为20w-150w,放电时间为1s。

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