[发明专利]一种异质结黑硅太阳能电池的制备方法无效
申请号: | 201110285826.3 | 申请日: | 2011-09-23 |
公开(公告)号: | CN102290496A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 夏洋;饶志鹏;万军;李超波;陈波;黄成强;刘键;石莎莉;李勇滔 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所;中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 异质结黑硅 太阳能电池 制备 方法 | ||
1.一种异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
对硅片表面进行处理,形成黑硅;
将所述黑硅放置于原子层沉积设备反应腔中;
在所述黑硅表面生长一层镍金属;
向所述原子层沉积设备反应腔中通入碳氢物质,通过等离子体放电,形成碳原子,所述碳原子自发积累在所述镍金属表面形成碳纳米管结构;
在所述碳纳米管表面涂上反射增透膜,形成异质结黑硅太阳能电池。
2.如权利要求1所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述硅片为多晶硅。
3.如权利要求2所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述对硅片表面进行处理,形成黑硅的步骤之前还包括:所述硅片的表面经过标准液和氢氟酸清洗,在硅片表面形成硅氢键。
4.如权利要求3所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述硅片的表面经过标准液和氢氟酸清洗,在硅片表面形成硅氢键的步骤之前还包括:对所述硅片进行掺杂,形成P型多晶硅或者N型多晶硅,掺杂浓度为1012-1016。
5.如权利要求1所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述对硅片表面进行处理具体为:用飞秒激光照射所述硅片表面使其产生针状纳米结构。
6.如权利要求1所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述在所述硅衬底表面生长一层镍金属具体包括:
A.向所述原子层沉积设备反应腔中通入镍前驱体,所述镍前驱体分解出的镍原子吸附在所述硅衬底表面;
B.向所述原子层沉积设备反应腔中通入含氢物质,通过等离子体放电,使得含氢物质中的氢原子与所述镍前驱体分解出来的配位基团反应,同时和所述硅衬底表面的镍原子形成镍氢键;
经过步骤A和步骤B多次交替反应后,所述硅衬底表面生长一层镍金属。
7.如权利要求6所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述镍前驱体为含镍络合物Ni[OC(CH3)(C2H5)CH2N(CH3)2]2。
8.如权利要求6所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述含氢物质为氨气,所述含氢物质通入所述原子层沉积设备反应腔的流速为50sccm-400sccm,所述原子层沉积设备反应腔的等离子体放电功率为100w-1000w。
9.如权利要求1所述的异质结黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述碳氢物质为乙炔,所述碳氢物质通入所述原子层沉积设备反应腔的流速为10sccm-100sccm,所述原子层沉积设备反应腔的等离子体放电功率为20w-150w,放电时间为1s。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的