[发明专利]一种提高数字无掩模光刻分辨力的方法无效
| 申请号： | 201110286667.9 | 申请日： | 2011-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN102331685A | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 罗宁宁;高益庆;张志敏;吴华明 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人： | 刘凌峰 |
| 地址： | 330000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 数字 无掩模 光刻 分辨力 方法 | ||
1. 一种提高数字无掩模光刻分辨力的方法，其特征在于：首先将原始空间频率较高的灰度掩模分解成m 幅与原始灰度掩模大小相等、空间频率稍低的灰度掩模，m为大于等于1的整数；再依次将每幅降频后的灰度掩模分解成n 幅大小相等的低频二值掩模，n为大于等于2的整数；原始空间频率较高的灰度掩模共分解成m??n幅二值掩模，利用SLM动态控制掩模的特性，将这m??n幅二值掩模沿垂直于掩模所在平面的方向顺序对准叠加曝光，每幅掩模的曝光时间为 ，其中i为大于等于1的整数，表示二进制数据中的位序，从而得到优于原始灰度掩模一次曝光的多次叠加曝光结果。
2.如权利要求1所述的提高数字无掩模光刻分辨力的方法，其特征在于：原始空间频率较高的灰度掩模沿二维坐标X方向或Y方向的一个周期中包含m个特征尺寸，每次以一个特征尺寸进行采样，一共可分解成m幅空间频率稍低的灰度掩模。
3.如权利要求1所述的提高数字无掩模光刻分辨力的方法，其特征在于：将降频后的灰度掩模各像素的灰度值转换成二进制数据，二进制数据的位数由公式确定 ，再依次取出所有像素二进制数据的对应位，所有像素的每一对应位即构成一幅低频二值掩模，降频后的每幅灰度掩模可分解成低频二值掩模的数量n可由降频后的灰度掩模中最高灰度值G确定为：。
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